Gebraucht AIXTRON TS CCSH55x2" #9386947 zu verkaufen

AIXTRON TS CCSH55x2 ist ein hochmoderner CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Herstellung von Dünnfilmbeschichtungen und -vorrichtungen verwendet wird. Es handelt sich um einen 200 mm breiten, 85 mm langen Schlitzreaktor, der zur Herstellung von nanometerdicken Geräten mit integriertem Heizelement bestimmt ist. Das Gerät arbeitet, indem es ein einziges Halbleitermaterial zu einem Zeitpunkt, unter kontrollierter Temperatur und atmosphärischem Druck, entweder in einer einzigen Phase oder als eine Reihe von mehreren Phasen verarbeitet. Die Hauptkomponenten von AIXTRON TS CCSH55x2 sind die Verarbeitungskammer, der CVD-Reaktorkopf und das Gasfördersystem. Die Verarbeitungskammer ist ein abgedichtetes Gehäuse aus Edelstahl, das eine gleichmäßige Temperaturumgebung schafft und eine Luftverschmutzung verhindert. Der CVD-Reaktorkopf enthält Heizelemente, mit denen der Wafer erwärmt und die Reaktanden gleichmäßig erwärmt werden. Es beherbergt auch ein Quarzfenster, mit dem Infrarotstrahlung in die Verarbeitungskammer gelangt und gleichzeitig das Halbleitermaterial vor Staub und schädlicher UV-Strahlung schützt. Die Gasfördereinheit ist dafür zuständig, die Reaktionspartner in genau geregelten Mengen und mit genau geregelten Geschwindigkeiten in die Verarbeitungskammer zu liefern. AIXTRON TS CCSH55x2 verfügt über mehrere Sicherheitsmerkmale, um die Sicherheit des Benutzers zu gewährleisten. Die Maschine umfasst eine Kombination aus Druck- und Temperatursicherheitsventilen, die die Temperatur und Druckerhöhung begrenzen, sowie Notabschalttasten bei Werkzeug- oder Kammerausfall. Der Reaktor weist außerdem eine die Bearbeitungskammer umgebende Vakuumisolierschicht auf, die die Möglichkeit eines Eintretens von Gefahrgut in die Arbeitsumgebung minimiert. AIXTRON TS CCSH55x2 verfügt auch über eine breite Palette von erweiterten Funktionen. Dazu gehört die Verwendung einer grafischen Benutzeroberfläche, die eine direkte Auslesung und Kommunikation zwischen dem Benutzer und dem CVD-Reaktor ermöglicht. Dies hilft, Fehler zu vermeiden, indem es Echtzeit-Feedback zu den Einstellungen des Assets gibt. Der CVD-Reaktor verfügt zudem über mehrere, einstellbare Parameter, die den Anwendern die für die Herstellung hochwertiger Dünnschichtbeschichtungen erforderliche Flexibilität und Präzision ermöglichen. AIXTRON TS CCSH55x2 ist ideal für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Halbleiterabscheidung, Beschichtung von dünnen Schichten, monolithische Integration und die Schaffung von Halbleiterbauelementen. Der Reaktor bietet die neueste Technologie und überlegene Leistung, so dass es ein zuverlässiges Werkzeug für die Herstellung von Materialien mit präzisen, gleichmäßigen Schichten, auf einer Reihe von Substratgrößen.