Gebraucht AIXTRON VP 2400HW #9222203 zu verkaufen

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AIXTRON VP 2400HW
Verkauft
Hersteller
AIXTRON
Modell
VP 2400HW
ID: 9222203
MOCVD System.
AIXTRON VP 2400HW ist ein High-End-Epitaxiereaktor für die metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD). Dieser Reaktor ist so konzipiert, dass er höchsten Anforderungen in Fertigungsprozessen mit der Fähigkeit zur Abscheidung von Metalloxid-, Silizium- und Nitridschichten gerecht wird. AIXTRON VP 2400 HW ist mit einer Hochdruck-Prozesskammer ausgestattet und ist mit einer High End MOCVD Source Unit ausgestattet, die reinere Gase sowie verbesserte Produktionsausbeuten bietet. Diese Quelle ist in die Prozesskammer mit höherem Druck integriert, was eine verbesserte Homogenität der Materialabscheidung ermöglicht. VP 2400HW ist auch mit einer High-End-Lade- und Entladeautomatik ausgestattet. Dieses System ist in der Lage, bis zu 4 Wafer gleichzeitig zu handhaben und ermöglicht eine Feinabstimmung des Reaktanteintrags. Diese Einheit ermöglicht auch das Be- und Entladen von Wafern ohne manuellen Eingriff oder teure externe Roboter. VP 2400 HW ist mit einer flexiblen Wafer-Positioniermaschine ausgestattet. Dieses Werkzeug ermöglicht eine exakte Positionierung der Reaktionspartner über den Wafern sowie eine Mehrzonen-Heizmöglichkeit, die die Probe gleichmäßig bis maximal 1400 ° C erwärmen kann. Das fortschrittliche 3-Zone Chimney Design von AIXTRON VP 2400HW ermöglicht eine kontinuierliche Erwärmung und Kühlung der gesamten Prozesskammer. Diese Konstruktion ermöglicht auch die Herstellung von hochgleichmäßigen Schichten mit verbesserter Genauigkeit. AIXTRON VP 2400 HW ist zudem mit einer Prozessüberwachung und Steuerung ausgestattet, die eine weitere Optimierung von Prozessparametern ermöglicht. Prozesskammer und Quelleinheit lassen sich durch die innovative Konstruktion von VP- 2400HW einfach trennen und austauschen. Diese Konstruktion gewährleistet auch eine verbesserte Sicherheit durch Vermeidung möglicher Verschmutzungen zwischen Kammer und Quelle. VP 2400 HW ist ein fortschrittliches MOCVD-Abscheidungsmodell, das verbesserte Produktionserträge, einheitliche Beschichtungs- und Prozessoptimierungsmöglichkeiten bietet. Es ist die ideale Wahl für Hersteller, die verbesserte Produktionsausbeuten und höchste Qualität bei der Herstellung von Metalloxiden, Silizium und Nitridschichten benötigen.
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