Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIAL P5000 #293610477 zu verkaufen

Der Applied Materials AMAT/APPLIED MATERIAL P5000 Photoresist Reactor ist ein Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterscheiben. Es wurde entwickelt, um Halbleitersubstrate zu ätzen und mit Photolackschichten zu beschichten. AMAT P5000 ist ein CVD-Prozesswerkzeug (Chemical Vapor Deposition), das bei der Herstellung integrierter Schaltungen und anderer mikroelektronischer Geräte verwendet wird. APPLIED MATERIAL P5000 besteht aus einer äußeren Kammer, der Prozesskammer, einem Gasfördersystem, einer Steuereinheit und einer Vakuumquelle, die alle in der Kammer eingeschlossen sind. Die äußere Kammer ist hermetisch abgedichtet ausgebildet, so dass sie temperatur-, gas- und druckgeregelt ist. Die Prozesskammer ist aus einer Edelstahlkammer und einem Quarzkörper aufgebaut. Der Quarz trägt dazu bei, dass die notwendige Wärme gleichmäßig Wärmebeständigkeit während des gesamten Prozesses ist. Das Gas Delivery System besteht aus zwei Hauptkomponenten, einem Trägergas und einem Reaktantgas. Das Trägergas wird zur Auflösung des Reaktionsgases verwendet, um sich in der Kammer abzuscheiden. Das Reaktantgas wird dann unter Bildung der Photolackschicht auf dem Substrat in die Kammer abgeschieden. Das Steuergerät ist für die Steuerung der Druck-, Gas-, Temperatur- und Zeiteinstellungen zuständig. Die Vakuumquelle ist für die Evakuierung der Prozesskammer notwendig. Es wird verwendet, um ein Vakuum zu erzeugen, um die notwendigen Bedingungen für den Abscheidungsprozess zu schaffen. Es kann auf ein bestimmtes Vakuum eingestellt werden, typischerweise im Bereich von 10-1 mbar. Zur Einleitung des Abscheideprozesses wird das Substrat in die Prozesskammer überführt und anschließend ein Vakuum erzeugt. Das Reaktandengas wird dann in das Trägergas gelöst und in die Prozeßkammer eingespritzt. Anschließend werden Temperatur, Gasfluss, Druck und Zeiteinstellungen eingestellt und der Prozess eingeleitet. Bei der Durchführung des Abscheideprozesses wird auf dem Substrat eine Photolackschicht gebildet, die die gewünschten Merkmale erzeugt. Das Applied Materials P5000 erfüllt die Bedürfnisse und Anforderungen der Halbleiterindustrie. Es ist ein technologischer Fortschritt im Photoresist-Abscheidungsprozess und bietet eine höhere Präzision und Genauigkeit. AMAT/APPLIED MATERIAL P5000 ist vielseitig und einfach zu bedienen, so dass es in einer Vielzahl von Situationen verwendet werden und eine breite Palette von Aufgaben erfüllen.