Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #293640054 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 Reaktor ist ein Hochleistungsreaktor für Halbleiterherstellungsprozesse. Diese Vorrichtung ist ein Einkammer-, vertikal-thermischer Reaktor. Der Reaktor ist ideal für die Verarbeitung einer Reihe von Materialien, einschließlich Legierungen, Oxide und Dielektrika. Der Reaktor nutzt einen Temperaturbereich von bis zu 1100 ° C, wobei die Temperaturen für eine Vielzahl von Prozessen geeignet sind. AMAT 0010-01286 Reaktor verwendet eine Mikrowellenfrequenz von 2.45GHz, die eine schnelle und gleichmäßige Temperaturregelung und eine gleichmäßige Temperaturverteilung im gesamten Material ermöglicht. Der Reaktor besteht aus einem Quarzzylinder mit einem Flüssigkeits- oder Gasheizelement innerhalb der Kammer. Der Tiegel ist innerhalb der Kammer abgedichtet und der Mikrowellenenergie innerhalb der Kammer ausgesetzt. Die Konstruktion des Reaktors ermöglicht auch einen Rezirkulationspfad, der dazu beiträgt, dass die zu verarbeitenden Materialien während des gesamten Prozesses derselben Umgebung ausgesetzt sind. Der Reaktionspartner wird üblicherweise über eine reaktorseitige Zuleitung eingebracht. APPLIED MATERIALS 0010-01286 Der Reaktor verfügt über mehrere erweiterte Funktionen, darunter integrierte Sensoren und Regler, ein Vakuumsystem, eine Temperaturregelung und ein Substratrotationssystem. Diese Funktionen bieten Anwendern einen benutzerfreundlichen, zuverlässigen und wiederholbaren Prozess für ihre Herstellungsanforderungen. Der Reaktor bietet eine Vielzahl von Vorteilen für Anwender und Prozesse, wie verbesserte Prozessgleichmäßigkeit, erhöhte Durchlaufzeit und erhöhte Ausbeuten. Der effiziente und zuverlässige Reaktor liefert stabile und wiederholbare Ergebnisse sowie sichere und skalierbare Operationen. 0010-01286 Reaktor ist eine Top-of-the-Line-Lösung für Halbleiter-Prozessanwendungen. Sein fortschrittliches Design und seine robusten Eigenschaften machen es für jeden Prozess von der Substratabscheidung bis zum Oxidfilmwachstum gut geeignet. Mit seinem effizienten und zuverlässigen Betrieb und seiner Kompatibilität mit einer Vielzahl von Substratmaterialien ist AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 eine ausgezeichnete Wahl für jeden Bedarf an Halbleiterherstellung.