Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #293806868 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 ist ein fortschrittlicher thermischer und ultravioletter (TUV) Reaktor, der für spezifische Verarbeitungsanforderungen und Anwendungen in der Halbleiterherstellungsindustrie entwickelt wurde. Dieser hocheffiziente Reaktor ist ideal für Hochtemperaturverarbeitungs- und Härtungsprozesse und bietet Schutz vor ultravioletter Energie, Wärme und Oxidation. Es wurde entwickelt, um maximale thermische und UV-Leistung bereitzustellen, so dass Benutzer einfachere, schnellere und zuverlässigere Dünnschichtabscheidung, Ablation, Ätzen und Konditionierung erzielen können. Die AMAT 0010-01286 besteht aus einer Edelstahlschale und einer oben angebrachten Quarzhülse, die drei doppelseitige, 3000-Watt-Halogenlampen enthält, die in einer vertikalen, 1-Grad-Winkelrichtung eingestellt sind. Die Lampen werden individuell mit einem maßgeschneiderten Steuerknopf gesteuert, so dass Benutzer die Intensität der Lichtleistung sowie ihre Wellenlänge und Brennpunkt anpassen können, um ihre Dünnschichtabscheidungs-, Oxidations-, Ätz- und Konditionierungsprozesse genau zu steuern. Die Edelstahlschale und die oben montierte Quarzhülse werden durch einen nichtmagnetischen, laborartigen Ständer aus Edelstahl mit einstellbaren Winkeln und Höhen unterstützt. Der Reaktor ist ferner mit einem einziehbaren langen Flachbett zur Lagerung von Proben in der Kammer und einer rotierenden Plattform für kammerseitige Proben ausgestattet. Darüber hinaus verfügt es über einen robusten, tÜV-beständigen Aluminium-Hitzeschild für den Wärmeschutz und einen 5 "Mikroboden für eine effektive Probenplatzierung. APPLIED MATERIALS 0010-01286 ist ein hochmoderner Reaktor, der hocheffiziente, zuverlässige thermische und ultraviolette (TUV) Leistung und ein einstellbares, integriertes Steuerungssystem liefert. Die mit Präzisions- und Spitzenkomponenten konstruierte, oben montierte Quarzhülse und die einstellbaren Winkel und Höhen des Edelstahltisches bieten optimale Flexibilität und Kontrolle für Dünnschichtabscheide-, Ablations-, Ätz- und Konditionierprozesse. Mit seinem hohen Temperaturschutz und seinen effektiven Probenplatzierungsfähigkeiten ist es die ideale Wahl für fortgeschrittene Halbleiterherstellungsanwendungen.