Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 #9311052 zu verkaufen

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ID: 9311052
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
MCA E-Chuck heater, 8" SNNF NI Plated 2003 vintage.
AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-01286 Reaktor ist eine Macht-gepackte Hybride pulsed-power/plasma Absetzungswerkzeug, das spezifisch für das Halbleitertordielektrikum und die Speichergerätfilmabsetzungsanwendungen entworfen ist. Es ist eine sehr zuverlässige und effiziente Produktionsausrüstung, die mit der fortschrittlichsten pulsierenden DC-Magnetron-Sputter-Technologie entwickelt wurde. Der Reaktor AMAT 0010-01286 umfasst eine 20-Zoll-Edelstahlkammer mit einem glockenglasförmigen, rostfreien Flammsprühsystem, das mit fortschrittlichen Heiz-, Kühl- und Atmosphärenkontrollfunktionen ausgestattet ist. Darüber hinaus bietet das Gerät eine innovative ALD-Funktion (Adaptive Layer Deposition) für die gleichzeitige konforme Dünnschicht- und Dünnkanalabscheidung. Der Reaktor verfügt auch über eine Allen Bradley SPS-basierte Steuerungsmaschine, um zuverlässige, wiederholbare und reproduzierbare Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus enthält der APPLIED MATERIALS 0010-01286 Reaktor einen Substratquellengenerator, der die gewünschte Substratabscheidungstemperatur präzise bilden und steuern kann. Das Werkzeug enthält auch eine ausgeklügelte Sputter Azimuth Control-Funktion, die den Sputterdruck und den Winkel des Prozessfensters anpassen kann. Darüber hinaus ist 0010-01286 Asset mit fortschrittlicher Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaätztechnologie für eine überlegene Oberflächenbehandlung von Materialien ausgestattet. Die Kammer wird aktiv durch einen Stickstoff und ein Helium-Heiz-/Kühlmodell gekühlt, was eine gleichmäßige Temperatur und ein hervorragendes thermisches Management gewährleistet. Die Kühleinrichtung arbeitet, indem sie die Prozessgase aus der Substratquelle und der Schubkammer einzieht und um die Kammerwände zirkuliert. Dadurch wird sichergestellt, daß das bearbeitete Material nicht durch thermische Schwankungen beeinflußt wird, die der herkömmlichen Halbleiterverarbeitung inhärent sind. Das AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-01286 System verfügt auch über zuverlässige Prozessüberwachungsfunktionen. Es ist mit einem In-situ-Messmodul in Echtzeit ausgestattet, um den Prozess genau zu überwachen und die Plasmakammer streng zu steuern. Zusätzlich bietet das Gerät minimalinvasive zerstörungsfreie Endpunktsteuermodule zur genauen Messung des Endpunktes des Abscheideprozesses. Die Maschine AMAT 0010-01286 liefert einen konsistenten und wiederholbaren Prozess, der für die Herstellung von TiN-Gate-Dielektrikum- und Speicherbauelementen unerlässlich ist. APPLIED MATERIALS 0010-01286 Reaktorwerkzeug bietet eine effiziente, zuverlässige und energieeffiziente Lösung, die den höchsten Standards in der heutigen Halbleitertechnologie entspricht.
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