Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #293769609 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254
ID: 293769609
MCA E-Chuck assembly.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 ist ein produktionsfähiger, hocheffizienter PVD-Reaktor, der zum Sputtern dünner Filme aus verschiedenen Materialien entwickelt wurde. AMAT 0010-03254 ist ein eigenständiges, 300mm Wafer-Kassette-zu-Kassette-Werkzeug, das Hochleistungs-Sputterabscheidung und die Fähigkeit bietet, mehrere Metall- und Metalloxidmaterialschichten gleichzeitig mit unabhängigen Prozesskammern abzuscheiden. Die PM-Kammer ist mit einer einzigartigen „Rotating Magnetron Source“ ausgestattet, die es ermöglicht, mit einer Vielzahl von Zielmaterialien, einschließlich herkömmlicher planarer Targets und zylindrischer Targets, einheitliche Schichtdicken zu erzeugen. Darüber hinaus ist es mit einem verbesserten rotierenden Ziel-Management-Equipment (ETM) ausgestattet, um die Steuerung und Gleichmäßigkeit des Standortes zu verbessern und das Lastschloss-Design zu verbessern, um die Partikelverschmutzung zu reduzieren. Die Steuerung des Reaktors erfolgt über ein spezielles Front-End-Automatisierungs- und Steuerungssystem. Das Gerät ermöglicht eine schnelle Rüst- und Rezeptoptimierung, bietet statistisch gesteuerte Qualitätssicherung und nutzt die heiße Waferbelastung. Dies bietet den Vorteil, Schäden an empfindlichen Reaktantgasen zu minimieren und gleichzeitig Wartungskosten zu senken und weniger Energie zu verbrauchen. Darüber hinaus unterstützt die Maschine sowohl den Einkammer- als auch den Mehrkammerbetrieb und ermöglicht eine flexible Prozessverstärkung. In Bezug auf seine mechanische Konstruktion wurde APPLIED MATERIALS 0010-03254 mit einer fortschrittlichen Pump-Down-Architektur ausgestattet, um schnelle Ausrüstungswechsel und Werkzeugwartung zu ermöglichen. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, fortschrittliche Membran- und Stützpumpen zu verwenden, um hohe Vakuumwerte in den Abscheidekammern zu erzeugen. Darüber hinaus ist der Reaktor mit hochpräzisen Antriebssystemen, optimierter Gasverteilung und verbesserter Gasspülung für verbesserte Leistung und effiziente Filmabscheidung ausgestattet. Im Zentrum des Reaktors 0010-03254 steht die Steuerungsplattform AMAT proven MDP4 (Maximized Data Processing for four chambers). Diese Plattform ermöglicht ein elegantes Rezept-Management mit statistischer Prozesssteuerung und höherer Ertragsoptimierung. Darüber hinaus ermöglicht der MDP4 Controller Trendanalysen und Custom-Analytics, so dass Bediener leistungsstarke Einblicke in den Mechanismus und das Verhalten von im Prozess befindlichen Materialien generieren können. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 ist ein leistungsstarker PVD-Reaktor auf Produktionsebene mit hervorragender Leistung und Prozessflexibilität. Seine Kombination aus fortschrittlicher mechanischer Konstruktion, Automatisierung und Steuerung macht es zu einem idealen Werkzeug für die schnelle Abscheidung von dünnen Schichten und die Abscheidung mehrerer Schichten von spezifischen Metallen und Metalloxidmaterialien gleichzeitig. Als solcher ist der AMAT 0010-03254 Reaktor ideal für eine Vielzahl von Sputteranwendungen.
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