Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9004838 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 ist ein Vollwaferverarbeitungsreaktor, der speziell für PECVD- und Oxidationsanwendungen in der Halbleiter- und MEMS-Fertigung entwickelt wurde. Der Reaktor eignet sich hervorragend zur Abscheidung von niederdielektrischen Schichten und Schutzfolien sowie zur Bildung von Antireflexbeschichtungen. AMAT 0010-03254 hat eine beheizte, drehbare Probenkammer mit einem Durchmesser von 200 mm und kann bis zu fünfzehn Wafer aufnehmen. Ein fortschrittliches Single-Shroud-Design sorgt für eine gleichmäßige Verteilung der Reaktantgase und eine gleichmäßige Seitenwandabscheidung. Die Substratvorspannung ist bei einstellbarer Vorspannungsfrequenz von 0 bis 700V einstellbar. Der Reaktor ist mit einer aktiven mechanischen Verschlusseinrichtung zur Regelung von Reaktantkonzentration, Temperatur und Druck für optimale Prozessergebnisse ausgestattet. Dieses System ist auch mit einer fortschrittlichen Prozesssteuerung ausgestattet, um die Reproduzierbarkeit und Wiederholbarkeit der Abscheidung zu optimieren. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS 0010-03254 über eine fortschrittliche Evakuierungsmaschine zur schnellen und effizienten Reinigung der Kammer mit Stickstoff oder Argon. Der Reaktor ist für die einfache Integration in bestehende oder neue Fertigungssysteme ausgelegt. Der modulare Aufbau macht Installation und Upgrade unkompliziert. Das Design ermöglicht es dem Bediener, Prozessrezepte schnell einzurichten und zu ändern sowie eine In-situ-Diagnose durchzuführen. Im Allgemeinen ist 0010-03254 ein fortschrittlicher, hochpräziser PECVD/Oxidationsreaktor, der entwickelt wurde, um qualitativ hochwertige Abscheidungsergebnisse zu liefern. Sein Design ermöglicht die schnelle und effiziente Bildung von niederdielektrischen Schichten, Schutzfolien und Antireflexbeschichtungen. Sein modularer Aufbau ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Fertigungssysteme und sein fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug sorgt für Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit der Abscheidung. Dieser robuste, zuverlässige und vielseitige Reaktor ist die ideale Wahl für die Halbleiter- und MEMS-Herstellung.