Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9208507 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 ist eine handelsübliche, vertikale Spaltblock, Gas-Reaktor-Ausrüstung. Dieser Reaktor ist als handelsübliche Ausrüstung für die Halbleiterverarbeitung, Abscheidung und Ätzung ausgelegt. Es ist ein sehr vielseitiges Gerät und kann in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden. Dieser Reaktor verfügt über eine Edelstahl-Split-Block-Baugruppe zur Dual-Wafer-Verarbeitung und eine variable Stromversorgung. Sie ist für eine konstante Temperatur- und Druckregelung im gesamten Reaktionsraum ausgelegt. Es verfügt über eine vertikale Reaktionskammer, die einen einfachen Zugang und Wartung ermöglicht. Der Reaktor kann bei Temperaturen bis 450 ° C für Abscheideprozesse und bis 800 ° C für Ätzoperationen arbeiten. Außerdem kann der Druck von 30 bis 1000Torr eingestellt werden. Der Reaktor weist ferner einen Oszillator zur rückseitigen Übertragung von Wafern in die beheizte Kammer und eine separate thermische Steuereinheit zur Auslegung von Heizprofilen auf. Ein weiteres Feature von AMAT 0010-03254 ist das integrierte Prozessautomatisierungsmodul. Mit diesem Modul können grundlegende Systemparameter wie Druck, Temperatur und Durchfluss gesteuert werden. Der Reaktor umfasst auch eine integrierte Gasfördereinheit mit automatischer Lecksuche, die einen effizienten und robusten Betrieb gewährleistet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein integriertes schaltbares Leistungsmanagementmodul und eine digitale Anzeigeeinheit mit integriertem Timer. APPLIED MATERIALS 0010-03254 ist aufgrund seiner bewährten Zuverlässigkeit und geringen Wartungskosten eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterverarbeitung. Der Reaktor hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, so dass es vielseitig und anpassungsfähig für eine Vielzahl von Anwendungen. Darüber hinaus ist das Produkt benutzerfreundlich, mit seiner leicht zugänglichen Reaktionskammer und einstellbaren Parametern und Eigenschaften. Dieser Reaktor ist eine gute Option für jeden Halbleiterprozess.