Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9312941 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 Reaktor ist ein vielseitiges Dünnfilm-Abscheidungsgerät für Experimente mit chemischer Dampfabscheidung (CVD) und physikalischer Dampfabscheidung (PVD). Die Reaktorkammer ist aus Edelstahl mit Quarzsubstrathalter und Widerstandsheizer-Suszeptor aufgebaut. Es ist in der Lage, ultralow-Druck zu Hochvakuum-Verarbeitung mit Betrieb bis zu 1000˚C. AMAT 0010-03254 Reaktor ist eine zuverlässige Quelle der Abscheidung auf mehreren Arten von Substraten mit präziser Temperaturgleichförmigkeit und einem Prozeßgasmischsystem. Das einzigartige Duschkopfdesign und die Länge der Reaktorkammer ermöglichen eine gleichmäßige Filmabscheidung auf Substraten auch bei hohen Wachstumsraten und Hochvakuumbedingungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0010-03254 Der Reaktor verfügt über einen ganzseitigen Ablagerungsbereich und eine zentrale Aufzugstür mit einer manuellen oder motorisierten Aufzugseinheit zum Be- und Entladen von Substratproben. Der Deckel der Maschine kann zur Substratreinigung oder Laserablation zur Vollfläche des oberen Duschkopfes geöffnet werden. 0010-03254 Reaktor bietet präzise Kontrolle über Prozessgase mit präziser Misch- und Massenstromregelung. Die Dual-Zone-Prozesse ermöglichen eine Prozesskammertemperatur von bis zu 25˚C beim Abscheiden von Folien. Die Temperatur im Zentrum des Substrats kann in einem Bereich von 25˚C bis 1000 ° C mit einer präzisen Temperaturgleichförmigkeit von ± 2 ° C genau geregelt werden. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 Der Reaktor ermöglicht das automatisierte Nachfüllen von Ausgangsmaterial und den Austausch von Substraten, wodurch manuelle Eingriffe in einen Produktionsablauf entfallen. Ein fortschrittliches Gasförderwerkzeug behält die genaue Kontrolle des Restdrucks und der Strömung von Prozessflüssigkeiten bei. Die Anlage ist für den Betrieb von Acetylen, Silan, Ammoniak und anderen Prozessgasen ausgelegt. Einzigartige Pilot- und Hauptventile sorgen für eine präzise Durchflussregelung. Die fortschrittlichen Eigenschaften von AMAT 0010-03254 Reactor bieten eine präzise Dünnschichtabscheidung für eine Vielzahl von Anwendungen wie Dünnschicht-CVD, PVD, ALD und Sputterabscheidung. Das Design sorgt für eine gleichmäßige Filmabscheidung auf großflächigen Substraten mit minimaler Kreuzkontamination und Substratschäden. Darüber hinaus bieten die erhöhten Ablagerungsraten Kosteneinsparungen durch Reduzierung der Zykluszeiten und Verbesserung der Produktivität.