Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03500 #293670004 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03500 ist ein Reaktor, der im CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) eingesetzt wird. Es ist ein spezialisiertes Stück Prozessausrüstung verwendet, um Dünnschichten aus Metall, Halbleiter, dielektrische und organische Verbindungen auf eine Vielzahl von Substraten aufzutragen. Der CVD-Reaktor verwendet thermische und chemische Prozesse, um das Material zu verdampfen und dann auf dem Substrat abzuscheiden. Dieser CVD-Reaktor verfügt über eine luftgekühlte Kochplatte, die für den Einsatz in horizontaler oder vertikaler Konfiguration ausgelegt ist. Die Kochplatte weist 3 Zonen auf, die eine präzise Temperaturregelung des Substrats ermöglichen und eine gleichmäßige Abscheidung über das gesamte Substrat ermöglichen. Der Reaktor verfügt außerdem über eine Mehrzonen-Quarzheizung, die auf gleichmäßige Erwärmung ausgelegt ist, mit einem Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 1000 ° C und einer Toleranz von ± 1%. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er mit einer Vielzahl von Materialien wie Silizium, Aluminium, Galliumarsenid, Indiumphosphid, Kohlenstoff und metallorganischen Chemikalien arbeitet. Der Reaktor ist auch für die Arbeit mit einer Vielzahl von Trägergasen wie Stickstoff, Argon und Wasserstoff für Oxidationsprozesse ausgelegt. AMAT 0010-03500 CVD-Reaktor kann für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, einschließlich Dickschichtverarbeitung, RTP (Rapid Thermal Processing) für Halbleiterherstellung, Dünnschichtabscheidung und für MEMS-kompatible Filmverarbeitung. Die große beheizte Fläche und die einstellbaren Gasströme machen diesen Reaktor für große Anwendungen geeignet. Der Reaktor ist außerdem mit einem Gaskrümmer ausgestattet, der eine präzise Steuerung mehrerer Gase bei CVD-Prozessen ermöglicht. Die Gasleitungen sind mit Massenstromreglern ausgestattet, die zur genauen Steuerung des Gasstroms zum Reaktor dienen. Dies gewährleistet reproduzierbare CVD-Reaktionen für eine Vielzahl von Substrat- und Produkttypen. Angewandte Materialien 0010-03500 CVD-Reaktor ist mit Sicherheit und Komfort im Auge entworfen. Mit seinem PMM (Power Monitoring Module) bietet es Leistungsüberwachung sowohl für Heizplatten- und Quarzrohrelemente als auch Sicherheitsverriegelungen. Der Reaktor verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Drucksensoren, Bodenfehlerunterbrecher und eine Vakuumsperre. Mit all diesen Eigenschaften ist der CVD-Reaktor 0010-03500 eine zuverlässige, sichere und flexible Prozessausrüstung.