Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843 #9268586 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843 ist ein branchenführender, chemischer Aufdampfreaktor (CVD), der bei der Herstellung von Halbleitern und anderen dünnen Schichten verwendet wird. Es wird derzeit bei der Herstellung verschiedener integrierter Schaltungsbauelemente (IC), Dünnschichttransistoren (TFT) und mikroskopischer Mikroskopie-Bauelemente eingesetzt. Dieser Reaktor ist mit einer Reihe von Heizelementen, einer Substratkammer und Verarbeitungsgasen zu dünnen Filmen auf der Oberfläche von Substraten ausgebildet. Der Substrathalter ist so ausgebildet, dass er die Gleichmäßigkeit und Qualität der resultierenden Folie maximiert. Die beiden wichtigsten Elemente dieses CVD-Reaktors sind die Heizelemente und Verarbeitungsgase. Die Heizelemente bestehen aus Wolfram, Tantal, Molybdän und anderen Metallen, um die richtigen Parameter für die Verarbeitung zu erreichen. Die Oberfläche der Heizelemente besteht aus Keramik, die die Gleichmäßigkeit und Stabilität der Heizelemente gewährleistet. Die Verarbeitungsgase werden zur Bildung der gewünschten Folie auf dem Substrat verwendet. Die am häufigsten verwendeten Gase sind Silan, Disilan und silandotierter Stickstoff oder Methan. Eine Reihe von Parametern wie Gasdurchsatz, Druck, Temperatur und Belichtungszeit werden auch angepasst, um sicherzustellen, dass die beste Qualität Film erstellt werden kann. Um die korrekte Qualität des resultierenden Films zu gewährleisten, muss der CVD-Reaktor auch richtig kalibriert werden. Dies geschieht durch Beurteilung der Gleichmäßigkeit, Dicke und Zusammensetzung der Folie und gegebenenfalls durch Anpassung der Parameter. Ist die Folie beispielsweise nicht gleichmäßig, so müssen gegebenenfalls Druck, Temperatur und Durchfluss der Gase eingestellt werden. Gleiches gilt für die Dicke und Zusammensetzung der Folie; Abweichungen hinsichtlich der gewünschten Dicke oder Zusammensetzung erfordern Änderungen der Parameter. Insgesamt ist AMAT 0010-03843 ein zuverlässiger und vielseitiger CVD-Reaktor, der dünne Filme mit präzisen Parametern herstellen kann. Dies gibt dem Benutzer die Möglichkeit, die genauen Filme zu erstellen, die er benötigt, um seine Projekte abzuschließen. Mit seiner zuverlässigen Leistung und präzisen Parametern ist dieser CVD-Reaktor eine großartige Option für jeden Anwender, der dünne Filme mit höchster Präzision erstellen möchte.