Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03843R #9270795 zu verkaufen

ID: 9270795
Wafergröße: 8"
DCxZ Ceramic heater, 8" Resistance: 4.3 ohm.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R ist ein Reaktor, der für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und -abscheidung entwickelt wurde. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er qualitativ hochwertige Ätz- und Abscheideprozesse bereitstellt, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente erforderlich sind. Es nutzt eine Kombination aus Hochleistungsvakuum und einer Reihe von Gaseinspritzfunktionen, um die Ätz- und Abscheidungsparameter genau zu steuern. Der AMAT 0010-03843R Reaktor ist aus einem Edelstahl-Vakuumkammergefäß aufgebaut, das durch ein Beobachtungsfenster sichtbar ist. Die Kammer ist mit mehreren Anschlüssen für Dicht-, Gas- und Pumpenanschlüsse ausgestattet. Das Innere des Reaktors ist auch mit zwei Planar Shields ausgestattet, die sich oben und unten befinden. Diese Abschirmungen sollen verhindern, dass während des Prozesses Verschüttete und Partikelquellen in den Reaktor gelangen. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0010-03843R Reaktor wird von einer Reihe externer Hochspannungsnetzteile angetrieben. Diese Netzteile speisen in den Kammerregler des Reaktors ein, der die Spannung zwischen den beiden Planar Shields je nach gewünschtem Prozessbedarf variiert. Ein Satz hochleistungsisolierter Schaltventile ermöglicht es dem Reaktor, Abgase und Prozessgase in die Kammer einzuspritzen. Darüber hinaus ist der Reaktor so ausgelegt, dass er Abgas- und Abfallpartikel über eine Reihe von Entlüftungs- und Abgasanschlüssen aus der Kammer heraustreibt. 0010-03843R Reaktor ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, die es ermöglichen, mit einer hohen Genauigkeit und Effizienz zu arbeiten. Insbesondere verfügt es über eine dynamische Endpunktdetektionseinrichtung, die Teil- oder Vollätzungen in Prozessschichten genau erkennen kann. Dieses System ermöglicht es dem Reaktor auch, das Vorhandensein von verbleibenden Partikeln innerhalb der Kammer zu detektieren. Darüber hinaus implementiert seine Steuereinheit einen Satz nichtlinearer Rückkopplungs- und Vorwärtsalgorithmen, die es dem Reaktor ermöglichen, seine Prozessleistung basierend auf Parametern wie Temperatur, Druck und Gasdurchfluss zu optimieren. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03843R ein fortschrittlicher High-Tech-Reaktor, der für Anwendungen von der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bis hin zu verschiedenen Ätz- und Abscheidungsprozessen konzipiert ist. Das robuste Design, die präzise Steuerungsmaschine und das dynamische Endpunkterkennungswerkzeug ermöglichen es, qualitativ hochwertige Ergebnisse mit hoher Effizienz und Genauigkeit zu liefern.
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