Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #152193 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 ist ein von AMAT, Inc. entwickelter Plasma Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der weitgehend zur Herstellung von Halbleiter-, Nanostruktur- und optischen Bauelementen verwendet wird. Zu den Hauptkomponenten des Reaktors AMAT 0010-09416 gehören eine innere Kammer, eine Plasmaquelle, ein Abgas, eine Vakuumausrüstung und Steuersysteme für prozessbezogene Größen wie Gasfluss, Druck und Temperatur. Die Innenkammer von APPLIED MATERIALS 0010-09416 ist zylindrisch geformt und aus Aluminium und Edelstahl gefertigt. Sie weist einen flachen Boden auf, der das Substrat aufnimmt, auf dem die Folie aufgebracht ist. Das Substrat kann entweder ein Si-Wafer oder ein Glas- oder Quarzsubstrat sein. Die Kammer steht während eines Abscheideprozesses unter Hochvakuum (typischerweise in der Größenordnung von 10-3 Torr). Eine generalisierte Strömung des Prozessgases gelangt durch einen Gaskasten in der Mitte der Kammer direkt über dem Substrat in die Kammer. Die Durchflussmenge wird durch die Steuerung geregelt und es können während des Prozesses bestimmte Gase zugegeben oder abgeführt werden. Das in 0010-09416 verwendete Plasma ist ein kapazitiv gekoppeltes, nicht thermisches AC-Plasma. Diese wird durch eine HF-Stromquelle erzeugt, die als Antenne zu der im Zentrum der Kammer befindlichen kuppelförmigen Plasmaquelle wirkt. Die HF-Stromquelle wurde entwickelt, um eine spezifische Leistungsdichte basierend auf der Prozesstemperatur und den Filmanforderungen bereitzustellen. Plasma wird verwendet, um die Reaktionspartner zu energetisieren und chemisch zu aktivieren, um das gewünschte Material zu bilden. Die Abgasöffnung entfernt die Reaktionsnebenprodukte aus der Kammer und ist typischerweise mit einer Vakuumeinheit verbunden. Die Steuerungssysteme für AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 ermöglichen eine exakte Manipulation der Prozessparameter wie Druck, Temperatur, Reaktantenverhältnisse und Gasdurchflussraten. Dies geschieht mit einer Kombination von mechanischen und/oder digitalen Reglern, die beide voll programmierbar sind. Darüber hinaus kann die Steuerungsmaschine verwendet werden, um Prozessdaten zu analysieren und automatisch Korrekturen vorzunehmen, die zu einer verbesserten Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit führen. Insgesamt ist AMAT 0010-09416 ein zuverlässiger und effektiver Reaktor, der in einer Reihe von Anwendungen mit der Herstellung von Halbleiter-, Nanostruktur- und optischen Bauelementen weit verbreitet ist. Seine erweiterten Fähigkeiten, einschließlich seiner Fähigkeit, Prozessparameter genau zu verwalten und seine Fähigkeit, Daten zu analysieren, machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für eine Vielzahl von Fertigungsprozessen.