Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9005021 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 reactor ist eine Kombination aus entfernter Plasmaquelle und Reaktor, die speziell für Ätz-, Abscheidungs- und Reinigungsprozesse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Der Reaktor ist mit einem frequenzvariablen Hochfrequenzgenerator ausgestattet, der eine hochfrequente Niederleistungswellenform erzeugt, die für Ätzmaterialien wie SiO2 und Si geeignet ist. Das vom Generator erzeugte Plasma wird dann in die Reaktorkammer eingespeist und dient dort zur Aktivierung der Vorläufermoleküle, die sich dann auf dem Wafer ablagern. Die Reaktorkammer ermöglicht auch eine präzise Regelung der Temperatur und des Druckes des Prozesses. Die Reaktorkammer ist so konzipiert, dass sie gleichmäßige, wiederholbare Prozesse mit geringen Verschmutzungen liefert. Mit einem Plasmaduschkopf wird das Plasma homogen über die Oberfläche des Wafers verteilt, während eine horizontale Waferbewegungsstufe verwendet wird, um ein gleichmäßiges Ätzprofil und eine gleichmäßige Geschwindigkeit zu erreichen. Zur Regelung des Drucks und der Temperatur des Gases innerhalb der Reaktorkammer wird Inertgas über die obere und untere Gaseinspritzung in die Kammer eingeleitet. Die Kammer arbeitet in einem Betriebstemperaturbereich von -20 ° C bis 180 ° C und Drücken von bis zu 1 Torr. Der Reaktor kann entweder als einzelnes Wafer- oder Chargensystem mit bis zu sechs Kammern ausgebildet sein. Das Sechskammersystem ist mit einer Prozesssteuerungssoftware und einem dreidimensionalen Diagramm des gesamten Prozesses ausgestattet. Diese Software ermöglicht es dem Ingenieur, die gewünschten Parameter wie Druck, Durchfluss und Temperatur des Plasmas während des gesamten Prozesses genau zu steuern. Das System bietet eine Reihe von Betriebsdruckoptionen, einschließlich Ultra-Niederdruck, Hochvakuum und Atmosphärendruck, so dass der angewandte Prozess den Anforderungen des Kundenprozesses entsprechen kann. Der Reaktor AMAT 0010-09416 ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für eine Vielzahl von Materialbearbeitungsaufgaben. Mit seiner präzisen und wiederholbaren Prozesssteuerung, flexiblen Betriebsparametern und niedrigen Verschmutzungsgraden ist der Reaktor eine ideale Wahl für die Herstellung hochwertiger Gerätestrukturen für die Halbleiterindustrie.