Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09416 #9026398 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09416 reactor ist ein fortschrittliches Gerät, das für Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Dieser Reaktor bietet die notwendigen Funktionen und Parameter, um hochwertige, fehlerfreie Wafer und Geräte zu schaffen. Der Reaktor enthält eine Reihe fortgeschrittener Komponenten wie eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle (ICP) und Schnellglühsysteme (RTA). Die im Reaktor enthaltene ICP-Quelle ermöglicht fortgeschrittene Prozesse wie Ätzen, Polysiliziumabscheidung und Dotierstoffimplantation. Diese privilegierte elektrische Energiequelle ermöglicht Oberflächenbehandlungen auf verschiedenen Substratmaterialien. Diese Oberflächenbehandlungen sind im Halbleiterherstellungsprozess von unschätzbarem Wert. Die ICP-Quelle ist auch in der Lage, reaktive und inerte Arten für Ätzzwecke zu produzieren. Dies ermöglicht eine Feinabstimmung des Geräteherstellungsprozesses. Darüber hinaus sind die ICP-Quelle und ihre Stromversorgung mit KI-fähigen Kühlsystemen gut geschützt und gewährleisten eine konstante Temperatur über den Reaktor. Die RTA-Ausrüstung ist ein wesentliches Merkmal des Reaktors AMAT 0010-09416. Dieses System bietet einen hohen Durchsatz und geringe thermische Budgets, was bedeutet, dass mit zunehmender Chips und Prozesskomplexität die RTA-Einheit immer noch eine Vielzahl von Anwendungen und Funktionen verarbeiten kann. Die RTA-Maschine bietet auch fortschrittliche Funktionen einschließlich rekuperativer Heizung, die es dem Reaktor ermöglicht, den Wafer schneller zu erwärmen, so dass der Prozess in kürzeren Zeiten abgeschlossen ist. Neben den ICP-Quell- und RTA-Systemen enthält der APPLIED MATERIALS 0010-09416 Reaktor noch eine Reihe weiterer Merkmale. Dazu gehören ein Heiz- und Kühlwerkzeug, eine vakuumdichte Prozesskammer, eine hochpräzise Gasförderanlage und andere fortschrittliche Komponenten. Alle diese Merkmale ermöglichen es dem Reaktor, epitaktisches Wachstum, GaAs-Abscheidung und mehr zu verarbeiten und gleichzeitig niedrige Fehlerraten zu erzielen. Dies ermöglicht extrem präzise Strukturen, die unterschiedlichsten individuellen Anwendungen gerecht werden. Schließlich wird der Reaktor über eine intuitive benutzerfreundliche Softwareschnittstelle gesteuert, die eine effiziente Prozesssteuerung und Automatisierung gewährleistet. Insgesamt ist 0010-09416 Reaktor von AMAT ein fortschrittliches Gerät, das in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Der Reaktor enthält eine Reihe fortschrittlicher Komponenten wie eine ICP-Quelle und RTA-Systeme, die die Verarbeitung extrem präziser Strukturen für eine Vielzahl unterschiedlicher Einzelanwendungen ermöglichen. Der Reaktor wird über eine intuitive benutzerfreundliche Softwareschnittstelle gesteuert, die eine effiziente Prozesssteuerung und Automatisierung gewährleistet. Es ist auch mit KI-fähigen Kühlsystemen gut geschützt und gewährleistet eine konstante Temperatur über den Reaktor.