Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293592810 zu verkaufen

ID: 293592810
RF Match for P5000.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 Reaktor ist ein einziger Waferofen zur Abscheidung von dünnen Schichten für industrielle Halbleiteranwendungen. Es eignet sich für den Einsatz in Forschung, Entwicklung und Produktion. Dieser Reaktor verwendet chemische Dampfabscheidung (CVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD) Techniken, um gasförmige Vorläufer in Feststoffe umzuwandeln. Der Reaktor verfügt über eine Quarzglocke, beheizt mit Widerstand und HF-Spulen. Das Glockenglas hat einen Innendurchmesser von 12 Zoll (30 cm) und eine Höhe von 20 cm. Dadurch erhält der Reaktor ein 4,9-Liter-Volumen. Ein Gasverteiler ist im Boden des Glases installiert, um eine gleichmäßige Strömung von zwei Gasen zu gewährleisten. Durch zwei Pumpstufen kann die Prozesskammer auf einem entsprechenden Druck gehalten werden. Ein Prozessregler ermöglicht es dem Bediener, die Temperatur, den Gasfluss und die HF-Leistung zu steuern. Der Temperaturbereich von AMAT 0010-09750 Reactor deckt von Raumtemperatur bis 1.200 ° C ab. Darüber hinaus ist die Prozesssteuerung mit Programmen ausgestattet, um den Betrieb einfacher und effizienter zu gestalten. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über Wasserkühlung und eine Pumpeinrichtung, die einen engen Vakuumprozess garantiert. Die Wasserkühlung soll eine übermäßige lokale Erwärmung beseitigen und die Systemtemperatur in einem Bereich halten, der die Zuverlässigkeit und Stabilität der Leistung des Geräts gewährleistet. In der Prozesssteuerung bietet der Reaktor eine ausreichende Umgebung für die Abscheidung von Optik und Funktionsmaterialien sowie für eine Vielzahl weiterer industrieller Verfahren. Sein fortschrittliches Design bietet eine genaue und wiederholbare Kontrolle über den Abscheidungsprozess. Dies kann bei der Erzeugung gleichmäßiger, hochwertiger Schichten von Vorteil sein. Die High-End-Steuerungsmaschine von APPLIED MATERIALS 0010-09750 Reactor ermöglicht es, eine Reihe von Prozessfunktionen genau und konsistent durchzuführen. Die Parameter des Prozesses können bei Bedarf modifiziert und auch für die spätere Verwendung gespeichert werden. Wie bereits erwähnt, verfügt das Werkzeug über eine Wasserkühlung, die hilft, eine übermäßige lokale Erwärmung zu verhindern und einen sicheren Temperaturbereich aufrechtzuerhalten. Insgesamt ist 0010-09750 Reactor ein zuverlässiges und leistungsstarkes Modell mit guten Prozesskontrollfunktionen. Ideal für industrielle und Forschungsanwendungen, die eine gleichmäßige Schichtabscheidung erfordern, ist dieser vielseitige Reaktor eine gute Wahl für verschiedene CVD- und PVD-Techniken.
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