Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293618116 zu verkaufen

ID: 293618116
RF Match for P5000 Process: CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 ist ein Einzel-Wafer, thermisch verarbeiteter chemischer Dampfabscheidungsreaktor. AMAT 0010-09750 ist ein Werkzeug zur Abscheidung von dünnen Schichten auf Halbleiterscheiben und Substraten. Die Reaktionskammer dieser Vorrichtung ist zylindrisch ausgebildet und ermöglicht eine gleichmäßige Abscheidung der Folie auf dem Substrat. Das Verfahren wird in einer heißen Wasserstoffatmosphäre bei Temperaturen im Bereich von 200-400 Grad Celsius durchgeführt. Die Reaktionskammer der APPLIED MATERIALS 0010-09750 ist mit Gas- und Prozesssteuergeräten ausgestattet. Diese Einheiten bieten eine präzise kontrollierte Umgebung, die eine genaue Strömung und Verteilung aller Reaktantgase ermöglicht. Dies erhöht die Reaktionsgeschwindigkeit, was zu höheren Ausbeuten und verbesserter Produktqualität führt. Im System wird auch ein zweistufiges Heizverfahren angewendet, das eine gleichmäßige Erwärmung des Substrats und der Reaktantgase gewährleistet, wodurch ein homogener Film auf dem Substrat entsteht. Die Filmwachstumsrate und Oberflächenglätte kann mit einer am Ausgang der Reaktionskammer angeordneten Drosselklappe eingestellt werden. Die Reflexion der Folie kann auch mit einem in der Reaktionskammer befindlichen Verschluss genau gesteuert werden. Der Verschluss hilft, eine hochwertige Folie mit einer breiten Palette von Brechungsindizes zu produzieren. 0010-09750 ist mit einer computerintegrierten Überwachungseinheit ausgestattet. Diese Maschine zeichnet Abscheiderate, Temperatur und Druck in der Reaktionskammer genau auf und ermöglicht eine bessere Prozesssteuerung. Das Tool enthält auch Hardware-Interlocks und Dampfeinspritzsteuerung für zusätzliche Sicherheit und verbesserte Produktionseffizienz. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 Reaktor wurde für viele Anwendungen eingesetzt, einschließlich der Abscheidung von Siliziumoxid- und Siliziumnitrid-Speicherchips, Passivierungsschichten für LED-Chips sowie Nitrid- und Oxidfilme für Transistorleiterbahnen. Die Anlage ist ein effektives, zuverlässiges und zuverlässiges Werkzeug zur Herstellung hochwertiger Dünnschichtmaterialien.
Es liegen noch keine Bewertungen vor