Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-09750 #293626250 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 ist ein Reaktor, der speziell entwickelt wurde, um dünne Filme auf der Oberfläche eines Substrats anzubauen. Es besteht aus drei Hauptkomponenten - einer Prozesskammer, einer Stromversorgung und einem Ladearm - und wird für eine Vielzahl von Prozessen verwendet, einschließlich chemischer Dampfabscheidung (CVD) und plasmaverbesserter CVD (PECVD). Die Prozesskammer besteht aus einem luftgefüllten Raum - oft auch als Vakuumkammer bezeichnet -, in dem das Substrat und die Dünnschichtmaterialien auf ihre gewünschten Temperaturen erwärmt werden. Die oft als Ofen bezeichnete Stromversorgung ist mit der Prozesskammer verbunden und liefert die notwendige Energie für das Wachstum. Der in der Regel über die Prozesskammer hinweg verlaufende Ladearm ermöglicht das Einbringen von Substraten in die Kammer. AMAT 0010-09750 verfügt über eine fortschrittliche Prozesskontrollausrüstung, die bei der Überwachung, Steuerung und Optimierung der Abscheideprozesse hilft. Es verfügt auch über ein Bordgasfördersystem, das dem Substrat Reaktantgase und Vorläufer liefert, einen beheizten Abgasanschluss, eine Vakuumeinheit, eine Vielzahl von spezialisierten Prozesswerkzeugen und eine einzigartige Datenerfassungsmaschine. Es verfügt auch über ein erweitertes Steuerungstool, das bei der Verwaltung des Ablagerungsprozesses hilft und eine schnellere Prozessoptimierung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0010-09750 verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich automatischer Absperrungen, Kontaminationsverhütung und Verriegelungen, um den Kontakt mit heißen Komponenten zu verhindern. Darüber hinaus verfügt es über eine automatisierte Datenerfassung, die Prozessdaten zur einfachen Überprüfung und Analyse aufzeichnet. 0010-09750 ist entworfen, um eine breite Palette von Substratgrößen, Filmdicken und Prozesstemperaturen zu handhaben. Es wird üblicherweise zum Hochtemperaturglühen und Abscheiden von Materialien wie Silizium, Titan oder Aluminiumnitrid verwendet. Es wurde entwickelt, um einen hohen Durchsatz und eine überlegene Prozesskontrolle bereitzustellen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-09750 ein hochentwickelter und zuverlässiger Reaktor, der dünne Filme auf der Oberfläche eines Substrats anbauen kann. Sein fortschrittliches Prozesssteuerungsmodell sorgt für optimale Prozessqualität, während seine Vielfalt an spezialisierten Werkzeug- und Sicherheitsmerkmalen überlegene Prozessstabilität und Effizienz bieten. Es ist ideal für diejenigen, die dünne Filme auf ihren Substraten schnell und zuverlässig wachsen müssen.
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