Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-12516 #293651608 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-12516 ist ein Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der für eine Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Es eignet sich für die meisten Halbleiter- und fortgeschrittenen Dünnschichtabscheidungsprozesse, einschließlich Nanomaterialien. Das Gerät weist eine verbesserte Kammerkonstruktion auf, die eine höhere Gleichmäßigkeit des Abscheideprozesses, eine höhere Prozessgeschwindigkeit und eine bessere Temperaturverteilung über das Substrat ermöglicht. Es enthält auch einen einzigartigen mechanischen Spannmechanismus, der einen dauerhaften Kontakt zwischen den Basisteilen und den Abdeckteilen aufrechterhält und einen maximalen Gasfluss für eine bessere Ausrüstungsleistung ermöglicht. Der Reaktor ist außerdem mit einem C-DSF-Pumpensystem mit zwei 65 l/s Ionenpumpen und einer 100 l/s Turbo-Molekularpumpe ausgestattet, um die erforderliche schnelle Druckabnahme und -stabilisierung zu gewährleisten. Das Gerät ist mit einer großen Anzahl von Prozessparametern ausgelegt, von denen jeder programmierbar ist, so dass es hoch einstellbar und flexibel ist, so dass Benutzer die Ausgabe an bestimmte Anforderungen anpassen können. Es ist mit einer automatischen Reinigungsfunktion ausgestattet, die eine automatische Reinigung des Reaktors zwischen den Läufen ermöglicht, und seine hochpräzise Messtechnik kann genaue Ergebnisse liefern. In Bezug auf Sicherheit und Schutz ist AMAT 0010-12516 mit strengen Sicherheitsstandards ausgelegt. Es kommt mit einer Verriegelungsmaschine, die jeden Zugriff auf den Prozessbereich während des Betriebs verhindert, und es hat auch ein Diagnosewerkzeug, das die Sicherheit und den Leistungsstatus in Echtzeit überwachen kann. Darüber hinaus ist die Anlage mit integrierten Druck- und Temperatursensoren sowie einem Modellleistungsmonitor ausgestattet, mit dem potenzielle Probleme erkannt werden können. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS 0010-12516 ein fortschrittlicher, hochzuverlässiger und effizienter Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsanforderungen geeignet ist, mit einer Vielzahl von Prozessparametern und Sicherheitsmerkmalen für erhöhte Sicherheit und Leistung.