Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-13879 #293640053 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-13879 ist ein Reaktor, der für fortgeschrittene Ätz- und Abscheidungsprozesse zur Halbleiterherstellung verwendet wird. Es handelt sich um einen parallelen Plattenreaktor, ein Reaktortyp, der häufig bei der Herstellung von Speicherchips und anderen Halbleiterbauelementen verwendet wird. Als paralleler Plattenreaktor verwendet die AMAT 0010-13879 zwei parallele Elektroden, die eine hohe Kontrolle der Abscheide- und Ätzprozesse ermöglichen. Die beiden in einem bestimmten Abstand voneinander angeordneten Platten können getrennt gesteuert werden. Diese Art von Reaktor arbeitet, indem ein geladener Teilchenstrahl zwischen den Platten geleitet wird, wo der Strahl dann in ein Plasma von Ionen zerlegt wird. Dies ermöglicht die Abscheidung von Materialien auf der oberen Platte unter Verwendung der unteren Platte als Substrat, während das Material auf der unteren Platte geätzt wird. Dies gibt dem Bediener die Möglichkeit, Form, Größe und Zusammensetzung des abzuscheidenden oder zu ätzenden Materials genau zu steuern. Angewandte Materialien 0010-13879 ist für den Einsatz mit Materialien, die niedrige Schmelzpunkte haben und leicht geätzt werden, wie Silizium und Galliumarsenid. Der Elektronenstrahl des Reaktors ist auf eine große Energieausbreitung ausgelegt, die einen exakten Ätz- und Abscheidungsprozess sowie eine erhöhte Gleichmäßigkeit bei der Steuerung des Prozesses ermöglicht. Außerdem wird die untere Platte gekühlt, um die Beschädigungen durch das zwischen den Platten hindurchgeführte Plasma zu verringern. Dieses Kühlsystem ermöglicht den höchsten Wirkungsgrad des parallelen Plattenreaktors, so dass der Bediener hohe Leistungen nutzen kann, ohne Angst vor einer Überhitzung oder Überlastung des Systems. Insgesamt ist 0010-13879 ein fortschrittlicher paralleler Plattenreaktor, der für den Einsatz in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Seine präzise Steuerung der Abscheide- und Ätzprozesse in Kombination mit seinem Kühlsystem macht es zu einer idealen Wahl für die Erstellung von Speicherchips und anderen fortschrittlichen Halbleiterbauelementen.