Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30318 #293661402 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30318 Reaktor ist ein Stand der Technik Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Ausrüstung. Dieses vielseitige Gerät bietet qualitativ hochwertige, in-situ Filmabscheidung auf einer Vielzahl von Substraten und verfügt über eine einzelne Tasche, Cold-Wall-System. Dieser PECVD-Reaktor kann eine Vielzahl von Materialien verarbeiten, wie Siliziumoxid, Nitrid, Siliziumnitrid, Polysilizium, chemischer Dampfabscheidungsdiamant und viele andere. Eines der wertvollsten Merkmale des Reaktors AMAT 0010-30318 ist die MicroCap-Einheit, die für Genauigkeit und Sicherheit bei der Filmabscheidung sorgt. Diese Maschine besteht aus einem automatischen Endzeigerwerkzeug, das eine höhere Genauigkeit und Konsistenz für wiederholbare Ergebnisse bietet, was zu einer größeren Prozesskontrolle führt. Zu den weiteren Merkmalen des Reaktors APPLIED MATERIALS 0010-30318 gehören eine intuitive Bedienoberfläche, eine ausgezeichnete Abscheidegleichmäßigkeit von 99,5%, kleinere Off-Center-Neigungsbedingungen und ein überlegener Prozessdurchsatz im Vergleich zu anderen Systemen. Dieser Reaktor verwendet auch einen maßgeschneiderten Duschkopf für gleichmäßige, homogene Abscheidung mit genauer Kontrolle über Beschichtungsdicke, Gleichmäßigkeit und Konformität. 0010-30318 Reaktor hat Anwendungen in der Produktion von Flachbildschirmen, Laserdioden-Arrays, thermoelektrische Geräte, LED-Chip-Bonden und MEMS-Verpackung. Darüber hinaus ist seine Vielseitigkeit und Gleichmäßigkeit auch ideal für fortgeschrittene Verpackungssubstrate, wie laserverstärkte geätzte und texturierte Substrate. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30318 ein hochmoderner PECVD-Reaktor, der fortgeschrittenen Anwendern eine zuverlässige und vielseitige Plattform bietet, um präzise und konsistente Ergebnisse zu liefern. Der MicroCap Asset bietet eine überlegene Prozesskontrolle, die höhere Durchsätze und höhere Erträge ermöglicht. Eine sehr zuverlässige Abscheidungsgleichmäßigkeit von 99,5% gegenüber einer Vielzahl von Substraten ist einer der Hauptvorteile dieses Reaktors. Schließlich ist es aufgrund seiner Vielseitigkeit und Genauigkeit eine großartige Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen, von Flachbildschirmen bis hin zu MEMS-Verpackungen.