Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-30319 #293661399 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-30319 ist eine Hochleistungsreaktorausrüstung, die entwickelt wurde, um überlegene Verarbeitungs- und Abscheidungsmöglichkeiten für die Herstellung von Verbundhalbleitern und verwandten Materialien bereitzustellen. Dieser Reaktor ist ideal für Anwendungen im Zusammenhang mit MEMS, optoelektronischen Komponenten, Leistungselektronik und anderen Mikro- und Nanostrukturen, die mit fortschrittlichen Dünnschicht- und Geräteherstellungsverfahren erstellt werden. Der Reaktor verfügt über ein großes, für Hochdurchsatzprozesse optimiertes Innenvolumen mit maximalen Gasströmen von bis zu 9000 Standardkubikzentimetern pro Minute (sccm) und Gesamtdrücken bis 1000 mTorr. Der Reaktor enthält eine HF-Sputterquelle, die eine präzise Steuerung der Sputterabscheidungsdicke und Plasmaparameter ermöglicht, und ist auch mit einem integrierten rotierenden Substratlader ausgestattet, der den Austausch von Substraten optimiert und den Bedarf an zusätzlicher Ausrüstung minimiert. Das System ist mit einem Loadlock-Modul ausgestattet und die hochauflösende, mehrzonige digitale Steuereinheit sorgt für präzise Gleichmäßigkeit über das gesamte Substrat. Die Kammer kann bis auf -20 ° C temperiert werden, wodurch Schichtdicke und Zusammensetzung durch unterschiedliche Temperaturbereiche optimiert werden können. Der Reaktor verwendet ein diskretes Quadrapolmassenspektrometer mit einem breiten Spektrum empfindlicher Nachweismöglichkeiten zur Überwachung der Zusammensetzung der gesputterten oder abgeschiedenen Schichten. Ein fortschrittliches Gasfördermodul sorgt zudem für eine präzise Zuführungssteuerung von Ätz- und Abscheidungsgasen mit der Fähigkeit, bis zu 20 Gase abzugeben. Die Reaktormaschine ist für den Einsatz mit einer Reihe von Prozesswerkzeugen wie In-situ-Werkzeugen zur Oberflächenanalyse, Wafer-Handhabungswerkzeug und anderem Zubehör konzipiert. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich mechanischer Sensoren, Verriegelungen und Entlüftungssysteme. Insgesamt liefert das Reaktormodell AMAT 0010-30319 präzise Leistung und einen unübertroffenen Durchsatz für fortschrittliche Dünnschicht- und Geräteherstellungsprozesse. Es eignet sich gut für die Herstellung von Verbundhalbleitermaterialien und MEMS, optoelektronischen Bauelementen und anderen Mikro- und Nanostrukturen.
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