Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36162 #9075364 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36162 ist ein vertikaler Niederdruck-chemischer Dampfabscheidungsreaktor (LP-CVD), der entwickelt wurde, um das Wachstum von ultrahochreinen, polykristallinen Siliziumfolien für die Halbleiterindustrie zu gewährleisten. Seine einzigartigen Eigenschaften machen ihn zu einem der vielseitigsten verfügbaren LP-CVD-Reaktoren. AMAT 0010-36162 Reaktor hat eine vertikale Quarzrohr heiße Zone und kann sowohl einzelne als auch mehrere Wafer aufnehmen. Dieser Reaktor verfügt über ein modernes Flachbandheizsystem, das ein konsistentes Temperaturprofil liefert, was zu gleichmäßigem Dünnschichtwachstum sowohl auf vertikalen als auch auf horizontalen Wafern führt. Dieses System hat auch eine einstellbare Durchflussmenge für hocheffizientes Filmwachstum und eine einfache Kammerassistenzsteuerung. Darüber hinaus stehen Leistungslaufwerke mit variabler Frequenz und Datenerfassungsfunktionen zur Verfügung, die eine präzise Wiederholbarkeit des Prozesses ermöglichen. Der Reaktor verfügt auch über eine gefensterte Prozesskammer, so dass Benutzer den Abscheidungsprozess in Echtzeit sehen können. Dieser Reaktor ist mit einem eingebauten dynamischen Spektrometer ausgestattet, um Abscheidungsraten und Filmgleichförmigkeit zu messen. Darüber hinaus wurde das fortschrittliche N2O-Managementsystem entwickelt, um den Partikelgehalt während des Abscheidungsprozesses zu reduzieren, was zu weniger Abfall und höheren Erträgen führt. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS 0010-36162 ein zuverlässiger LP-CVD-Reaktor mit langer Lebensdauer. Die Quarzrohr heiße Zone ist für längere Lebensdauer und höhere Temperaturfähigkeit entwickelt, so dass es die Anforderungen der anspruchsvollsten Wachstumsbedingungen zu erfüllen. Die fortschrittlichen Elektro- und Gassysteme sind für maximale Effizienz bei geringem Wartungsaufwand ausgelegt. Zusammenfassend ist 0010-36162 ein zuverlässiger und effizienter LP-CVD-Reaktor, der für ein gleichmäßiges, qualitativ hochwertiges Wachstum von polykristallinen Siliziumfolien für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Seine Eigenschaften machen ihn zu einem der vielseitigsten und fortschrittlichsten verfügbaren LP-CVD-Reaktoren.