Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36408 #9207766 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36408 ist ein PECVD-Reaktor, auch bekannt als Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor, ist eine Vorrichtung zum Abscheiden dünner Filme auf einem Substrat. Der PECVD-Reaktor besteht aus einer Vakuumkammer, in der der Abscheideprozess stattfindet, einer Energiequelle in Form einer Lichtbogenentladung oder eines Hochfrequenzgenerators zur Initiierung der Ionisation und einer Gasmanagementeinrichtung zur genauen und präzisen Zufuhr reaktiver Gase in die Kammer. Die Vakuumkammer des PECVD-Reaktors ist aus Edelstahl gefertigt und soll ein hohes Vakuumniveau von bis zu 10-5 Torr aufrechterhalten. Es ist mit zwei Aussichtspunkten und einem quarzgefütterten Ätzabschnitt für eine einfache Beobachtung während des Betriebs ausgestattet. Die Energiequelle liefert eine Lichtbogenentladung zwischen zwei Elektroden in der Kammer und dient hauptsächlich zur Unterstützung der Glimmentladung. Alternativ kann mit einem HF-Generator ein Plasma erzeugt werden, das ein nicht gleichgewichtiges, teilweise ionisiertes Gas aus Atomen, Molekülen und freien Elektronen mit hohen Temperaturen (> 1000 ° C) ist. Das Gasmanagementsystem ermöglicht eine präzise Steuerung von Gasfluss und Druck aus den unterschiedlichsten Gasquellen, um unterschiedliche Material- und Filmparameter zu erhalten. Zur Abscheidung muss ein Substrat in die Abscheidekammer eingesetzt und auf eine Elektrode gelegt werden. Die Gasverwaltungseinheit ist so eingerichtet, dass je nachdem, welches Material abgeschieden werden soll, ein gewünschter Strom an reaktiven Gasen in die Kammer bereitgestellt wird. Die Energiequelle wird aktiviert, um den Abscheidungsprozess auszulösen, der aus einer Reihe von Plasmaentladungen zwischen den Elektroden besteht. Speziell konstruierte Abschirmplatten werden installiert, um den Plasmastrom auf das Substrat zu lenken. Der Abscheidevorgang ist abgeschlossen, wenn die vorgegebene Anzahl oder Zeit erreicht ist. Das Endergebnis ist eine Dünnschichtbeschichtung aus gewünschtem Material auf dem Substrat. Der PECVD-Reaktor ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet, um mikroelektronische Komponenten herzustellen, da er ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, konforme Abdeckung und glatte Oberfläche bietet. Es hat auch den Vorteil, eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, Keramik, Polymere und Dielektrika abscheiden zu können. Darüber hinaus kann der PECVD-Reaktor zur Abscheidung von Beschichtungen für optische Anwendungen, Beschichtungen zum Verschleiß- und Korrosionsschutz sowie Dünnschichten für Solarzellen verwendet werden. Abschließend ist der PECVD-Reaktor AMAT 0010-36408 eine wirksame Vorrichtung zur Abscheidung dünner Filme auf Substraten. Es besteht aus einer Vakuumkammer, einer Energiequelle und einer Gasmanagementmaschine zur zuverlässigen und präzisen Steuerung des Gasflusses. Der PECVD-Reaktor wird in einer Vielzahl von Branchen für verschiedene Anwendungen eingesetzt und ist somit ein unverzichtbares Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung.