Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-36734 #293640069 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734 Reaktor ist eine verbesserbare, Hochdurchsatz-Plasmabearbeitungsanlage. Dieses System ist ideal für hochpräzise Ätz- und Abscheidungsanwendungen, einschließlich Siliziumätzen und Dünnschichtabscheidung. Der Reaktor AMAT 0010-36734 kombiniert erweiterte Funktionen für Steuerung, Temperaturmanagement und Prozesssteuerung. Dies ermöglicht schnelle Zykluszeiten, optimierte Ätz- und Abscheideprozesse und wiederholbare Prozessleistung in Reinraumumgebungen. ANWENDUNGSMATERIALIEN 0010-36734 Reaktor hat eine Prozesskammer mit einem Innenvolumen von 27,2 Litern und einer Außengröße von 827 mm (32,5 „) breit x 1061 mm (41,8“) tief x 984 mm (38,7) hoch. Enthalten ist ein 3-Zonen-isolierter bidirektionaler Sockel, der eine Reihe von Substratgrößen und -formen unterstützt, einschließlich kreisförmiger und rechteckiger Substrate bis zu 200mm (7,9 "). Es hat einen maximalen Prozessdruck von 200 mTorr und einen Basisdruck von 1x10-8 Torr. 0010-36734 Reaktor wird von einem integrierten SCPI-4 Prozesssteuerungsmodul angetrieben. Dieses Modul bietet umfangreiche Unterstützung für Prozessparameter, Rezept-Datenmanagement und Echtzeit-Pumpensteuerung. Es gibt auch einen externen PC für zusätzliche Funktionen, einschließlich on-the-fly Anpassung von Prozessparametern, Prozessüberwachung, Post-Process-Analyse und Datenprotokollierung. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-36734 ist auch mit einem separaten Hochleistungs-Vakuumpumpenpaket ausgestattet. Dieses Paket beinhaltet eine Turbo-Molekularpumpe mit einer Pumpgeschwindigkeit von 40 l/s, ein Paar schruppen trockene Spiralpumpen und zugehörige Regler. Die Turbomolekularpumpe ermöglicht schnelle Zykluszeiten und hohe Ätz- und Abscheidungssteuerung, während die Spiralpumpen den Prozessdruck für die Präzisionsbearbeitung optimieren. Neben der Prozesskammer umfasst die Maschine AMAT 0010-36734 mehrere Funktionen zur optimalen Prozesssteuerung. Dazu gehören ein einstellbares Gaseinspritzwerkzeug mit Zweikanal-Gassteuerung, ein Zweizonen-HF-Generator mit Hochleistungsmessung (2,45 GHz) in situ und ein Zweizonen-HF-Generator. Die Gaseinspritzeinrichtung ermöglicht eine schnelle und gleichmäßige Gasverteilung in der Kammer, während die HF-Generatoren genaue und wiederholbare Plasmaleistung an das Zielsubstrat liefern. Schließlich ist das Modell APPLIED MATERIALS 0010-36734 so konzipiert, dass es mit zusätzlichen Prozessmodulen und Komponenten aufgerüstet werden kann. Beispielsweise kann eine zusätzliche Plasmaquelle, eine Kammerspülung und ein Widerstandsfilmsensor hinzugefügt werden, um die Prozessgleichförmigkeit zu erhöhen und die Ätz- und Abscheidungssteuerung zu verbessern. Insgesamt bietet 0010-36734 Reaktor Hodurchflussplasma in einer Prozession gehende Fähigkeiten in repeatable und kontrollierten Bedingungen an. Mit seinen einstellbaren Gaseinspritzeinrichtungen, HF-Generatoren und Vakuumpumpensystemen kann dieses Gerät verwendet werden, um qualitativ hochwertige Ätz- und Abscheidungsergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus bietet es zusätzliche Prozessmodule, mit denen Benutzer ihre Maschine an ihre spezifischen Anforderungen anpassen können.