Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-59787 #293665751 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-59787 PECVD Reaktor ist eine Abscheidekammer zur Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten für eine Vielzahl von elektronischen Geräten und Systemen. Dieses System nutzt chemische Aufdampfverfahren (CVD), um das gewünschte Dünnschichtmaterial auf die Oberfläche eines Substrats abzuscheiden. Der PECVD-Reaktor zeichnet sich durch ein einfach zu bedienendes Kammerdesign aus, das eine hervorragende Abscheidungsgleichmäßigkeit und gleichmäßige Schichtdicke über die gesamte Substratoberfläche bietet. Der Reaktor AMAT 0010-59787 verfügt über eine einzige automatisierte Lade-/Entladekammer sowie integrierte Strom-, Vakuum- und Gasfördermodule. Diese Kammer ist entworfen, um niedrige Substrat Be- und Entladezeiten zur Verfügung zu stellen, um kürzere Gesamtverarbeitungszeiten zu gewährleisten. Die Kammer ist auch ausgelegt, um höhere Prozesstemperaturen als herkömmliche thermische CVD-Prozesse zu erreichen, wodurch hochwertigere Folien hergestellt werden können. Der Reaktor wurde entwickelt, um eine einfache und intuitive Bedienung mit einer einfach zu befolgenden grafischen Oberfläche und einer robusten Systemarchitektur zu bieten. Die Kammer wurde entworfen, um ein breites Bearbeitungsfenster bereitzustellen, so dass der Benutzer die Temperatur, den Druck und andere Prozessparameter entsprechend ihren spezifischen Abscheidungsbedürfnissen anpassen kann. So können Anwender eine Vielzahl hochwertiger Dünnfilme erstellen. Das Reaktivgasabgabesystem in diesem Reaktor nutzt ein Niederdruck-Niedertemperatur-Verfahren zur chemischen Aufdampfung (LP-CVD), um den gewünschten Film auf der Oberfläche des Substrats abzuscheiden. Das LP-CVD-Verfahren ermöglicht es Anwendern, aus einer Vielzahl von Reaktionsgasen auszuwählen und ermöglicht auch die Einstellung der Gaszusammensetzung zu hochspezifischen Filmen. Die Kammer ist auch so ausgelegt, dass sie eine extrem gleichmäßige Folienabscheidung mit dem Potential für exakte und wiederholbare Foliendickenprofile über die Substratoberfläche bietet. Die Kammer verfügt außerdem über einen einfach zu bedienenden Controller mit einer Vielzahl von Datenerfassungs- und Prozesskontrollfunktionen, um sicherzustellen, dass der Prozess sicher ist und zuverlässige Ergebnisse liefert. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0010-59787 Der PECVD-Reaktor ist eine leistungsstarke Abscheidekammer, die sowohl eine qualitativ hochwertige Abscheidungsgleichmäßigkeit als auch eine optimale Prozesskontrolle bietet und somit perfekt für die Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien für elektronische Geräte und Systeme geeignet ist.