Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-65541 #293660489 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-65541 ist ein Mehrkammerprozessreaktor zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es wird zum Ätzen, zur Sputterabscheidung und zur schnellen thermischen Verarbeitung von Wafern verwendet und eignet sich sowohl für 150mm als auch für 200mm Wafer. Das Gerät besteht aus einem Großrechner aus Edelstahl, einer unabhängigen Steuerung, einer Power Board, einer Vakuumpumpe und einer Wasserkühlung. Die Power Board beherbergt die Stromversorgung sowohl für den HF-Sputter als auch für die Hochspannungs-DC-Sputterkammern, so dass die Kammern mit hoher Leistung arbeiten können. Es bietet auch eine Strömungssteuerung für die Gaseinleitung aus den externen Gasquellen in die Prozesskammer. Die Steuereinrichtung betreibt eine Benutzeroberfläche, die es dem Benutzer ermöglicht, den Prozess zu steuern, die Prozessparameter zu überwachen, die Prozessparameter einzurichten und den Prozess aufrechtzuerhalten. Die Kammer der AMAT 0010-65541 weist mehrere Komponenten wie zwei Sputterquellen, eine Gasquelle und ein Kühlmittelsystem auf. Die beiden Sputterquellen bieten unterschiedliche Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten aus Halbleitermaterial, wie Oxiden und Nitriden. Der Sputterprozess dient zum Ablagern oder Wegätzen von Materialien. Die Kühlmitteleinheit hilft, eine stabile Wafertemperatur während der Verarbeitung aufrechtzuerhalten, während die Gasquellen bestimmte chemische Zusätze für die Umgebung der Prozesskammer bereitstellen. Die Anlage enthält auch eine Vakuummaschine, die vor der Bearbeitung die gesamte in der Kammer befindliche Luft absaugt und den Druck in der Kammer während der Bearbeitung aufrechterhält. Dies ist wichtig, um die Reinheit der erhaltenen Wafer zu erhalten und die Reaktion zwischen den Prozessgasen und dem Substrat zu steuern. Das Vakuumwerkzeug ist auch mit einer eigenen Vakuumpumpe verbunden. Das Vakuumpumpenaggregat ist zum Abpumpen der bei der Verarbeitung entstehenden Abgase ausgelegt, wodurch die Reinheit der Kammeratmosphäre verbessert wird. ANWENDUNGSMATERIALIEN 0010-65541 Reaktor bietet eine Vielzahl von Merkmalen für präzise und effiziente Wafer Herstellung. Seine zahlreichen Sputterquellen, Gasquellen und Kühlmittelressourcen bieten eine breite Palette an Verarbeitungsfähigkeiten. Sein zuverlässiges Vakuummodell hält die Prozessatmosphäre aufrecht, während seine unabhängige Steuerung es dem Benutzer ermöglicht, die Ausrüstung genau zu steuern und zu überwachen. Seine Kompatibilität mit 150mm und 200mm Wafern macht es für eine breite Palette von Fertigungsprozessen geeignet. All diese Merkmale machen die Einheit zu einer ausgezeichneten Wahl für die Geräteherstellung und ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug für die Halbleiterherstellung.