Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-70058 #293658101 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-70058 reactor ist eine hocheffiziente Kammerausrüstung für eine Vielzahl von Anwendungen in der Materialwissenschaft und Prozessentwicklung, wie Dünnschichtabscheidung. Dieses System ist in der Lage, hochwertige, gleichmäßige Beschichtungen von Dünnschichtmaterialien zu liefern und wird in verschiedenen Anwendungen wie Mikroelektronik, Datenspeicherung und Photovoltaik eingesetzt. Der Reaktor AMAT 0010-70058 verwendet eine Abscheidekammer, die eine Edelstahl-Vakuumkammer mit hochreinem Aluminiumoxid aufweist, die einen abnehmbaren Graphittiegel umschließt. In der Abscheidekammer befinden sich auch ein Präzisionswaagenstrahl, ein HF-Generator und weitere Hardwarekomponenten, die zur Steuerung der Abscheideraten erforderlich sind. Diese Einheit umfasst auch eine umfangreiche Kammerdruckregelmaschine, die in zwei getrennten Stufen enthalten ist. Die erste Stufe der Drucksteuerung umfasst eine Turbomolekularpumpe zur Verringerung des Gashintergrunddrucks und eine Schruppschruppdrosselklappe zur Feineinstellung des Drucks in der Kammer. Die zweite Stufe der Druckregelung umfasst eine mit einem Faraday-Becher gekoppelte E-Strahlquelle und ein mechanisches Absperrventil zur präzisen Regelung der Verdampfungsrate und der Kammerdruckeinstellung. Das Tool nutzt die neuesten Technologien und besteht aus mehreren Komponenten, die für beste Leistung optimiert sind. Es bietet hohe Verarbeitungsraten, sehr gleichmäßige Schichtdicken und eine hervorragende Stiktionskontrolle. Die verschiedenen Technologien, die im Reaktor eingesetzt werden, umfassen eine Reihe fortschrittlicher Infrarot- und Ultraviolettlaser und eine fortschrittliche Elektronenmikroskopie. Zur chemischen Aufdampfung enthält der Reaktor einen HF-Generator, ein oder zwei Filamentdurchführungen, ein Quarzrohr und eine Gaseinspritzdüse. Im Betrieb werden Gase über das Target geleitet, wo sie mit dem erhitzten Material zusammenwirken. Während die Atome reagieren, legen sie einen Film oder eine Materialschicht auf das Substrat ab. Diese Schicht kann in der Dicke von Nanometern bis Mikrometern je nach Material und Betriebsparameter reichen. Neben der chemischen Aufdampfung unterstützt der APPLIED MATERIALS 0010-70058 Reaktor auch eine Reihe anderer physikalischer Aufdampfverfahren, wie Sputterabscheidung und ionenstrahlunterstützte Abscheidung. Bei der Sputterabscheidung wird ein Targetmaterial in die Vakuumkammer eingelegt und mit energetischen Atomen beschossen. Diese energetischen Atome brechen dann die Oberfläche des einen dünnen Film bildenden Materials ab. Ionenstrahlunterstützte Abscheidung arbeitet, indem ein energiereicher Strahl von Ionen in die Kammer injiziert wird, die dann mit dem Zielmaterial reagieren. Insgesamt ist der Reaktor 0010-70058 ein fortschrittlicher Hochleistungsreaktor, der entwickelt wurde, um hochwertige, einheitliche Beschichtungen zu liefern. Durch den Einsatz modernster Technologien ist dieses Modell in der Lage, sehr gleichmäßige Schichtdicken und eine hervorragende Stiction-Kontrolle zu liefern. Das Gerät ist auch in der Lage, eine Vielzahl von physikalischen Aufdampfverfahren zu unterstützen, so dass es auf eine breite Palette von Dünnschichttechnologien angewendet werden kann.