Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-75004 #9389377 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75004 ist ein hochleistungsfähiger, vakuumthermischer CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für Filmwachstumsprozesse verwendet wird. Es ist für den Einsatz in der Halbleiterherstellung und anderen fortschrittlichen Werkstoffherstellungsprozessen konzipiert. Dieser Reaktor bietet den Komfort der Hochdurchsatz-Folienwachstumsbearbeitung bei möglichst geringen Kosten. Der Reaktor AMAT 0010-75004 besteht aus einer Vakuumkammer, einer Heizquelle und einem Gaseinspritzsystem. Die beheizte Vakuumkammer besteht aus Edelstahl mit einer wasserstoffbeständigen Beschichtung und sorgt für ein homogenes Temperaturprofil im gesamten Innenraum. Die Temperatur der Kammer kann leicht an die Abscheidungsparameter angepasst werden. Die Heizquelle ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Widerstandsfaden mit einem Schutzschirm, der für jede Abscheidung leicht gewechselt werden kann. Das Gaseinspritzsystem ermöglicht die Einleitung eines breiten Spektrums von Gasen in die Kammer, wodurch die Abscheidungsparameter präzise gesteuert werden können. Angewandte Materialien 0010-75004 Reaktor liefert überlegene Prozessgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Es verfügt über einen automatisierten Prozessregler zur präzisen Prozessparameterregelung, einschließlich Druck, Temperatur, Durchfluss und Gaszusammensetzung. Es verfügt auch über ein optionales Fernbedienungsmodul, das eine Echtzeit-Überwachung und Einstellung des Prozesses von einem Computer aus ermöglicht. Die Kammer von 0010-75004 ist mit einem leistungsstarken Entlüftungssystem ausgestattet, um einen sicheren Vakuumdruck aufrechtzuerhalten. Es ist auch mit einem Einlassduschkopf ausgestattet, um die Partikelabscheidung zu minimieren. Um Verunreinigungen zu vermeiden, ist der Reaktor mit einem eigenen Wasserkühler und einer austauschbaren Schutzplatte ausgestattet. Die Schutzplatte sorgt für einen sicheren und zuverlässigen Betrieb des Reaktors. AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-75004 Reaktor bietet eine breite Palette von Operationen, die den Bedürfnissen des Halbleiterherstellungsprozesses entsprechen. Es bietet einen beispiellosen Hochdurchsatz und wiederholbare Verfahren mit hohen Ausbeuten. Der Reaktor kann für eine Vielzahl von Filmwachstumsprozessen verwendet werden, vom Sputtern bis zur Epitaxie, Molekularstrahlepitaxie und mehr. AMAT 0010-75004 eignet sich für fortschrittliche Werkstoffherstellungsprozesse wie Silizium-Wafer-Ätzen, Silizium-auf-Isolator-Verarbeitung und viele andere.