Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81422 #293664188 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81422 ist ein Hochtemperatur-CVD-Reaktor, der vom Bewegungssteuerungsexperten AMAT entworfen und entwickelt wurde. Dieser leistungsstarke Reaktor eignet sich besonders für die Prozessentwicklung und Herstellung verschiedener Dünnschicht- und Heterostrukturmaterialien, darunter Verbundhalbleitermaterial wie Galliumnitrid (GaN), Indiumphosphid (InP) und Aluminiumgalliumarsenid (AlGaAs). Dieses vielseitige Gerät verfügt über eine Zwei-Zoll-Kammer, die es für eine breite Palette von Wafergeometrien geeignet macht und für Temperaturen von bis zu 450 ° C ausgelegt ist. Die robuste und zuverlässige Reaktorausrüstung verfügt über bis zu sechs Quellanschlüsse sowie Gaseinspritz- und Verteilersysteme zum Pumpen von Reaktanden aus der turbulenzarmen Kammer. Auf diese Weise können verschiedenste Verfahrensbedingungen für die Materialabscheidung einschließlich einer einstellbaren Abscheiderate, gepulsten Verdampfern und Co-Verdampfern verwendet werden. Zusätzlich ist jede der Öffnungen mit Massenstromreglern und betätigten Ventilen ausgestattet, um eine präzise Steuerung des Gasstroms durch die Kammer zu ermöglichen. Das Abgas wird auch mit Hilfe von Rechnern geregelt, da es aus Sicherheitsgründen ein bestimmtes Niveau nicht überschreiten sollte. Das Reaktorsystem verfügt außerdem über eine erweiterte Steuereinheit, mit der Benutzer Prozesse schnell und einfach einrichten, mit dem Betrieb beginnen und Ergebnisse in Echtzeit überwachen können. Diese benutzerfreundliche Maschine besteht aus einem Touchscreen-Panel, das die relevanten Parameter des Werkzeugs wie Druck, Funktion und Temperatur anzeigt. Es bietet auch sehr zuverlässiges, Echtzeit-Feedback, das konsistente und wiederholbare Prozesse ermöglicht. Das integrierte Thermoelement und die Lüftersteuerung sorgen für eine weitere Präzisionssteuerung im Prozesstemperaturbereich. Der Reaktor AMAT 0010-81422 ermöglicht es Anwendern, eine breite Palette von Materialien aus Metall-organischen Verbindungen für die Halbleiterindustrie schnell zu entwickeln und herzustellen. Mit seinen verbesserten Sicherheits- und fortschrittlichen Steuerungssystemen, hohen Kammertemperaturen und einer Vielzahl von Merkmalen ist dieser kompakte, aber leistungsstarke Reaktor ideal für Anwendungen in der Ultragroßintegration (ULSI) und der Compound-Halbleiterverarbeitung.