Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-93423 #293650215 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-93423 ist ein fortschrittlicher Plasmaätzreaktor, der für die chemische Dampfabscheidung (CVD) entwickelt wurde. Bei dem Reaktor handelt es sich um eine Zweikammer-Mehrprozesseinrichtung mit über ein externes Entlüftungssystem verbundenen oberen und unteren Kammern. Es hat eine flache Kammerauslegung und Temperaturregelung in jeder Kammer ermöglicht eine unabhängige Steuerung der Prozessparameter. Die obere Kammer verfügt über eine hochdichte Plasmaquelle mit einer leistungsstarken induktiven Energiequelle. Dies ermöglicht die Erzeugung von gleichmäßigem und reproduzierbarem Plasma, das für erfolgreiche Ätzprozesse wesentlich ist. Sie umfaßt auch eine reaktive Gasfördereinheit zur Zuführung der erforderlichen Prozessgase, so daß die gewünschten Ätzparameter erreicht werden können. Die Bodenkammer enthält mehrere Reaktionsziele, von denen einige isoliert sein können, und kann auch mit zusätzlichen Prozesskomponenten oder Detektoren ausgestattet sein. AMAT 0010-93423 ist in einem robusten Edelstahlrahmen aufgebaut und kann hohen Temperaturen standhalten. Es hat auch eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich Bruchscheiben für Überdruckschutz, Notabgasanlagen und Notgasabsperrventile. Die SPS verfügt über eine automatisierte Steuerung und Datenerfassung mit einem integrierten Touchscreen, um auf Prozesseinstellungen und Datenerfassungsfunktionen zuzugreifen. Dies ermöglicht es Benutzern, kritische Prozessparameter zu überwachen und Einstellungen während des Betriebs in Echtzeit anzupassen. Die SPS ermöglicht auch die einfache Integration der Maschine in ein größeres Prozessüberwachungs- oder Automatisierungsnetzwerk und unterstützt sowohl EtherCAT als auch Ethernet-basierte Netzwerke. APPLIED MATERIALS 0010-93423 eignet sich für eine Vielzahl von Verfahren und Anwendungen. Es ist ideal für Anwendungen mit Niedertemperatur-Prozessrezepten, wie Abscheidung von Oxiden, Nitriden und Oxynitriden. Es ist auch in der Lage, das Ätzen auf einer breiten Palette von Materialien durchzuführen, einschließlich Silizium, Edelstahl, InP und SiC, und kann verwendet werden, um hohe Auflösung und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Darüber hinaus eignet es sich für eine breite Palette von Probengrößen, so dass es ideal für den Einsatz in Forschungs- und Entwicklungsprojekten.