Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293657998 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 reactor ist ein industrieller thermischer CVD (Chemical Vapor Deposition) Reaktor, der die höchste Ausbeute an Produkten für maximale Leistung liefert. Es verfügt über eine integrierte Arbeitsraumkonstruktion, die ein gleichmäßiges Temperaturprofil über den gesamten Abscheidungsbereich der Kammer für eine überlegene Qualität der Abscheidung gewährleistet. Der thermische Reaktor AMAT 0041-75950 verwendet einen Halogentemperaturmonitor und eine automatische Zonensteuerung, um eine gleichmäßige Temperatur in der gesamten Kammer aufrechtzuerhalten. Dies hilft, eine genaue Abscheidung in der gesamten Kammer zu gewährleisten. Es verfügt über eine breite Palette von Sollwerten und variablen Temperaturen, die für verschiedene Prozesse leicht einstellbar sind. Angewandte Materialien 0041-75950 Reaktor hat eine Genauigkeit Temperatur-Kontrollsystem und eine hohe Qualität Abscheidung Fenster für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Es hat auch eine gleichmäßige Wärmeverteilungsplatte, um eine gleichmäßige Wärmeübertragung in der gesamten Kammer zu gewährleisten, um thermische Belastungen zu reduzieren. Diese Funktion trägt dazu bei, eine hohe Gleichmäßigkeit der Foliendicke und gute Gesamtergebnisse zu gewährleisten. 0041-75950 verfügt außerdem über eine computergesteuerte zeitbasierte Hf-Leistungsregelung zur präzisen Abscheidungsratensteuerung. Diese Einheit trägt zusammen mit der integrierten Steuerungsmaschine dazu bei, dass die Abscheideparameter während des gesamten Laufs konstant gehalten werden. AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 verfügt außerdem über eine Hochgeschwindigkeits-Gasregelung, um eine stabile Gaseinleitung in den Arbeitsraum für maximale Ausbeute zu gewährleisten. Die Hochgeschwindigkeits-Gasregelung trägt auch dazu bei, ein qualitativ hochwertiges, einheitliches Produkt zu gewährleisten und gleichzeitig Wartungsfreundlichkeit und ausgezeichnete Sicherheitspraktiken zu gewährleisten. Der Reaktor AMAT 0041-75950 verfügt über einen großen Arbeitsraum von 9 "x 9" x 3 "mit einer maximalen Druckleistung von bis zu 8 Atmosphären, wodurch verschiedene Anwendungen wie hochpräzise Dünnschichtabscheidung, Glühen, Nitridabscheidung, Niedertemperaturabscheidung usw. möglich sind. Es ist auch dazu fähig, komplizierte Aufgaben wie Metallsilikonoxydsilikonnitridsilikon zu erfüllen, photowidersteht Absetzung. Es enthält auch eine Not-Aus-Taste auf der Frontplatte für zusätzliche Sicherheit montiert. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0041-75950 Reaktor kommt mit einer kompletten Suite von Zubehör, einschließlich einer Edelstahl-Transferplattform zum einfachen Be- und Entladen, einen Ladezonenvorwärmer zum Vorwärmen von Proben vor dem Laden, ein Gaskrümmerwerkzeug, ein Hochspannungsnetzteil zur Hochtemperaturabscheidung, einen wassergekühlten Verteiler zur Kühlung, ein Sicherheitsmodell für Gaskrümmer, eine Vakuumausrüstung, und ein PC-basiertes Steuerungssystem mit integrierter Software zur einfachen Steuerung und Überwachung. Der All-in-All-Reaktor 0041-75950 ist eine ausgezeichnete Wahl für viele CVD-Prozesse aufgrund seiner hervorragenden Temperatur- und Druckkontrolle, seines hochwertigen Abscheidefensters und der einheitlichen Wärmeverteilungsplatte sowie seiner allgemeinen Sicherheit und Benutzerfreundlichkeit.