Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293660498 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 ist ein Single Zone Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der entwickelt wurde, um hochwertige Dünnschichtmaterialien auf einem Substrat abzuscheiden. Dieser Reaktor eignet sich insbesondere zur Abscheidung von elastischen und langlebigen dielektrischen Dünnschichten, wie sie in Elektronik, Energiespeichern und für optische Zwecke verwendet werden. Dieses CVD-Verfahren beinhaltet die Erzeugung einer Dampfwolke aus Reaktantgasen über dem abzuscheidenden Substrat mittels thermischer oder Plasmaenergie; diese Dampfwolke kondensiert dann auf und haftet auf dem Substrat, das eine Dünnfilmbeschichtung bildet. AMAT 0041-75950 ist ein thermischer CVD-Reaktor im horizontalen Stil mit einer Gasversorgungsleitung, einer Heizeinrichtung, Gasstromreglern und Gassensoren sowie der Abscheidezone im Zentrum der Reaktorkammer. Die Einzonenkonstruktion umfasst eine hydraulisch betätigte Hubtür, die eine geringe Kontaktfläche für die Probenkammer und eine nicht verschmutzende Umgebung bietet. Die Kammer nutzt eine umlaufende turbulenzarme Gasströmung, die eine Gleichmäßigkeit über den Abscheidungsbereich gewährleistet. Die Vakuumkammer für ANGEWANDTE MATERIALIEN 0041-75950 wird für einen Druckbereich von 1-10 Torr bewertet und ist vollständig aus Edelstahl für Korrosionsbeständigkeit. Der Substrathalter wird elektrisch auf Temperaturen zwischen 0 und 1000 ° C erwärmt. Um die richtige Abscheiderate und Schichtdicke zu gewährleisten, wird die Temperaturrate mit einem Infrarot-Pyrometer überwacht. 0041-75950 ist für einen hohen Prozessdurchsatz und eine erhöhte Lebensdauer der Komponenten aufgrund geringer Wartungsanforderungen ausgelegt. Es ist so konzipiert, dass es kontinuierlich und ununterbrochen für insgesamt bis zu 8 Stunden läuft, bevor eine Wartung erforderlich ist. Es kommt mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich einem automatischen Verschlusssystem, einer Auspuffeinheit und einer eingebauten Kammerkratzmaschine, um jegliches Abscheidungsmaterial an den Wänden der Kammer zu sammeln. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 für die hochwertige und effiziente Abscheidung von Dünnschichtmaterialien konzipiert, so dass es ideal für den Einsatz in der Herstellung von elektronischen, Energiespeichern und optischen Systemen ist. Dieser Einzonen-CVD-Reaktor ist eine äußerst zuverlässige, effiziente und kostengünstige Option für die Abscheidung von dünnen Filmen.