Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293669536 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 ist ein fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. Es ist zum Abscheiden von dünnen Materialfilmen auf Substraten ausgelegt. Diese dünnen Filme werden in den unterschiedlichsten Anwendungen eingesetzt, von Photovoltaikzellen bis hin zu Halbleiterbauelementen. AMAT/APPLIED hat eine zweifrequente, induktiv gekoppelte, quellgesteuerte Plasmaquelle. Diese Konstruktion ermöglicht eine optimale Kontrolle der Plasmaparameter, was zu einer besseren Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit im Abscheidungsprozess führt. Der Reaktor verfügt über eine integrierte, frequenzvariable, quellenangetriebene Stromversorgung. Diese Konstruktion ermöglicht eine präzise Regelung der Frequenz und der Leistung des Plasmas. Darüber hinaus ist der Reaktor mit einem programmierbaren Wellenformgenerator ausgestattet, mit dem der Benutzer seine Prozessparameter an seine spezifischen Bedürfnisse anpassen kann. Der Reaktor weist eine horizontale Magnetronquelle und He-Gasquelle auf. Diese Konstruktion gewährleistet Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer und ermöglicht ein hohes Maß an Prozesskontrolle. Der Reaktor unterstützt eine Vielzahl von Reaktionsgasen, darunter N2, O2, CO und Ar. Es ist entworfen, um mit Standard-Produktion Wafer Größen von zwei bis acht Zoll im Durchmesser zu arbeiten. ANGEWANDTE MATERIALIEN/ANGEWANDTE MATERIALIEN verfügen über einen modularen Aufbau mit der Fähigkeit, Prozessquellen leicht auszutauschen. Diese Flexibilität ermöglicht es dem Anwender, sich schnell an wechselnde Substratanforderungen anzupassen. Der Reaktor ist außerdem mit einem Prozessüberwachungssystem ausgestattet, mit dem der Benutzer den Abscheidungsprozess in Echtzeit visualisieren kann. Dies hilft, gleichmäßige, gleichmäßige Filmablagerungen zu gewährleisten. AMAT/APPLIZIERTE MATERIALIEN/APPLIZIERT ist in der Lage, einen weiten Bereich von Abscheidungsgeschwindigkeiten von 1 bis 500 nm/min zu erreichen. Dies ermöglicht verschiedene Keimbildungsraten, die für die Abscheidung hochwertiger Dünnschichten entscheidend sind. Der Reaktor ist für hohe Durchsatz- und Prozessstabilität ausgelegt und eignet sich somit bestens für großvolumige Fertigungsumgebungen. Abschließend ist AMAT 0041-75950 ein sehr vielseitiger und benutzerfreundlicher PECVD-Reaktor. Es verfügt über eine breite Palette von Prozessquellen und einen modularen Aufbau, der eine einfache Austauschbarkeit ermöglicht. Der Reaktor ist für hohe Durchsatz- und Prozessstabilität ausgelegt und ermöglicht eine schnelle und zuverlässige Dünnschichtabscheidung für eine Vielzahl von Anwendungen.