Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-20012 #293666635 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-20012 Reactor ist ein robustes System, das für die Herstellung von Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Dieser Reaktor wurde speziell entwickelt, um hochwertige, hochpräzise, gleichmäßige und defektarme Wafer und Komponenten herzustellen, die bei der Herstellung von Halbleitern für Computer, Unterhaltungselektronik und andere moderne Technologien entscheidend sind. Die Reaktorkammer ist ein Ultrahochvakuumsystem, das für einen zuverlässigen, wiederholbaren und sicheren Betrieb ausgelegt ist. Es verfügt über eine fortschrittliche Diffusionspumpe, um eine niedrige Vakuumumgebung im gesamten reagierten Substrat aufrechtzuerhalten. Damit entfallen zusätzliche Kristallisationsschritte bei der Herstellung dieser hochkomplexen Halbleiterscheiben. Der Reaktor kann Temperaturen bis 1600 ° C mit einem niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten standhalten. Dadurch eignet sich der Reaktor gut für den Betrieb in einer Hochvakuumumgebung mit Hochtemperatur- und Hochdruckreaktionsprozessen wie für epitaktisches Wachstum, Hochtemperaturdiffusionsprozesse oder Dünnschichtabscheidung. Der Reaktor ist auch in der Lage, einen Druck in der Nähe des Atmosphärendrucks bei niedrigem, energieeffizientem Betrieb zu erreichen, so dass er ideal für eine Reihe von Filmabscheidungs-, Wachstums- und Ätzprozessen ist. Die im AMAT 0100-20012 Reaktor verwendeten Einsatzstoffe können entweder Festkörper- oder Gasphase sein. Diese Materialien können aus Antimon, Arsen, Bor, Kupfer, Gallium, Chlor, Blei und Silizium bestehen. Der Reaktor ist mit Parametereinstellungen programmiert, um eine exakte Kontrolle über Temperatur, Druck und andere Aspekte des Reaktionsprozesses zu gewährleisten. Es ist auch mit einem fortschrittlichen Oberflächendetektor ausgestattet, um die Gleichmäßigkeit des Wafers zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN 0100-20012 Reaktor ist ein unverzichtbares Werkzeug für die Halbleiterindustrie. Es bietet eine ideale Kombination aus Genauigkeit, Präzision und Wiederholbarkeit und bietet gleichzeitig eine zuverlässige, sichere und einheitliche Betriebsumgebung für die Herstellung von Qualitätswafern oder Gerätekomponenten. Durch Reduzierung der Kristallisationsschritte, Verringerung der Ausbeuten und Erhöhung des Durchsatzes kann dieser Reaktor dazu beitragen, die Herstellungskosten und die Markteinführungszeit für das Endprodukt zu reduzieren.