Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-20063 #293659251 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-20063 ist ein industrieller Reaktor, der für eine Vielzahl von Prozessen in der Halbleiter- und Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde. Diese High-End-Abscheidekammer, basierend auf Warmwandtechnologie, ist so konzipiert, dass sie bei hohen Abscheidegeschwindigkeiten kontinuierliche und gleichmäßige Filme auf großen Substraten bildet. Dieser Reaktor verwendet eine horizontale und vertikale Konfiguration mit einer Mehrfachbuchse für verschiedene Suszeptor-Design. AMAT 0100-20063 ist mit einem 5-Wafer Heißwand- und Heißstripper ausgestattet, der eine Vielzahl von Prozessen wie Katalysator und Metallverdampfung, Niederdruck-Chemikaliendampf (LPCVD), Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) und Atomic Layer Deposition (ALD) ermöglicht. Dieser Reaktor ist in der Lage, alle Arten von Anwendungen zu handhaben, einschließlich Reaktantenheizung, Kristallwachstum, Filmabscheidung, Sputtern und Ätzen. Diese Abscheidekammer verwendet eine doppelwandige Struktur, die eine Außenwand aus 316L Edelstahl und eine Innenwand aus Zirkonoxid an der Oberseite und Magnesiumoxid an der Unterseite für überlegene Wärmedämmung und mechanische Unterstützung hat. Darüber hinaus verfügt es über eine eingebettete Temperatursonde, die eine optimale Temperaturauslesung und gleichmäßige Abscheidung ermöglicht. Der Reaktor ist mit einem spiralförmigen Impedanzheizelement ausgebildet, das ein klar definiertes Temperaturprofil für gleichmäßige und volle Filmbildung liefert. Dieses System ermöglicht Temperaturgenauigkeit und Genauigkeit innerhalb von +/- 2 ° C. Alle Komponenten sind auf außergewöhnliche Lebensdauer und Zuverlässigkeit ausgelegt; und hat als solche eine Langzeitstabilität von +/- 0,03 ° C pro Stunde. Die APPLIED MATERIALS 0100-20063 ist mit einem Druckdifferenzsensor sowie einem Zyklusmanometer ausgelegt. Es verfügt auch über einen Gasdurchflussmesser, der eine präzise Steuerung der Reaktantgase innerhalb des Systems ermöglicht. Die integrierten und optimierten Abscheidekomponenten innerhalb der Kammer ermöglichen eine gleichmäßige Filmbildung und Prozessreproduzierbarkeit. Diese Kammer ist mit einer eingebauten Ionenquelle zur Filmglättung ausgestattet, die eine erhöhte Gleichmäßigkeit und Folienoberflächenintegrität bei gleichzeitiger Reduzierung partikulärer Verunreinigungen innerhalb der Kammer ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht eine optionale Fernbedienung eine ausgeklügelte Temperaturkurvenprogrammierung und einen effizienten Produktionsgewinn. 0100-20063 ist ein vielseitiger und zuverlässiger Reaktor, der eine überlegene Wärmedämmung und mechanische Stabilität für verschiedene Abscheidungsprozesse bietet. Diese High-End-Abscheidekammer ermöglicht kontinuierliche und gleichmäßige Folien und bietet gleichzeitig eine überlegene Temperaturgenauigkeit für eine zuverlässige und wiederholbare Prozesssteuerung.