Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 019009275 / 019009272 #293658103 zu verkaufen

AMAT 019009275 (Photoresist Asher) und APPLIED MATERIALS 019009272 (Photoresist Etcher) sind Reaktoren, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen auf den branchenüblichen 300-Millimeter (12-Zoll) Wafern eingesetzt werden. Diese Reaktoren verwenden hohe Temperaturen und eine präzise Prozesskontrolle, um Materialien zu reinigen und zu ätzen, die in der Hightech-Chipherstellung verwendet werden. Der 019009275 Photoresist-Ascher ist ein Einwafer-Atmosphärendruck-oxidativer Ascher, der zur Entfernung von Photoresist auf Halbleiterscheiben verwendet wird. Es verfügt über eine sehr gleichmäßige, großvolumige Gasverteilungseinrichtung, die eine homogene Betriebsatmosphäre in der gesamten Kammer gewährleistet. Die Siliziumkammer verwendet ein hochtemperatur-, direkt belastendes, Zwangskonvektionssystem, das eine schnellere Hochtemperaturverarbeitung ermöglicht. Es kann auch automatisch das Substrat vor der Verarbeitung vorheizen, um thermische Belastungen zu reduzieren. Der 019009272 Photoresist-Ätzer ist ein elektrostatisch fokussierender Hochvakuum-Ätzreaktor. Es entfernt Photolack von Substratoberflächen, um für die Ionenimplantation vorzubereiten, sowie die Bildung von Mustern für die Herstellung integrierter Schaltungen. Es verfügt über eine hochgleichmäßige Gasverteilereinheit, die eine homogene Betriebsatmosphäre gewährleistet, und eine Zwangskonvektionsfördermaschine, um eine effizientere Gasförderung zu ermöglichen. Die Kammer verfügt auch über Kühlstifthalter, um die Wafertemperaturen zu erhalten, und dynamische Substratvorspannung, um die Ätzrate und Gleichmäßigkeit zu steuern. Beide Prozesse verfügen über eine automatisierte Echtzeit-Prozessüberwachung zur Sicherstellung der Prozessgleichförmigkeit über mehrere Wafer und eine erweiterte Diagnose zur Analyse laufender Prozesse. Das Prozess-Endpunkt-Erkennungswerkzeug hilft auch, den Abbau von antireflektierenden Beschichtungen (ARC) zu reduzieren, während die Reinigungsanlage nach dem Ätzen hilft, Oxidrückstände auf Waferoberflächen zu reduzieren. AMAT/APPLIED MATERIALS 019009275 und die 019009272 sind eine zuverlässige, hochgleichmäßige und effiziente Plattform für die Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Sie bieten zuverlässige Hochdurchsatz-Herstellungsverfahren für die Spanfertigung und sind damit ideal für die Herstellung von Hightech-Chips.