Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0195-07994 #293663243 zu verkaufen

ID: 293663243
Wafergröße: 8"
ESC Assy, 8" Process: DPS Metal.
AMAT/APPLIED MATERIALS 0195-07994 ist ein Doppelplenumreaktor, der für Abscheideprozesse in der Halbleiter- und Verbindungshalbleiterindustrie ausgelegt ist. Es ist speziell für Siliziumätzverfahren konzipiert, kann aber auch für andere Materialien verwendet werden. Dieser Reaktor ist hochgradig konfigurierbar, sodass Benutzer ihn für ihren gewünschten Prozess anpassen können. Es verfügt über zwei Kammern mit getrennten Gaswegen, die zur besseren Temperaturregelung individuell isoliert sind. Die beiden Kammern sind mit einer separaten reinraumsicheren Umgebung verbunden, in der Benutzer ihre Prozessgase und Proben speichern und vorbereiten können, bevor sie zum Reaktor transportiert werden. Der Reaktor AMAT 0195-07994 verfügt über mehrere Gaszuführungen, um Experimente mit mehreren gleichzeitig eingebrachten Gasen zu erleichtern. Die Gasfördereinrichtung ist hocheffizient, mit einem einstellbaren Durchflussregler für eine optimale Steuerung. Darüber hinaus können Anwender die Strömung jedes Gases separat steuern, um eine präzise Lieferung für gezielte Experimente zu ermöglichen. Der Reaktor kann auch in einer Niederdruckumgebung betrieben werden, was bei Verwendung von Ethylen und Fluorkohlenwasserstoffgasen von Vorteil ist. Alle Komponenten des Systems, einschließlich Gasfördereinheit, Prozesskammer und Sicherheitsverriegelungen, sind in einer einzigen Einheit zur Bequemlichkeit untergebracht. Darüber hinaus ist die Prozesskammer des Reaktors mit fortschrittlicher Automatisierung zur Temperatur- und Abscheideregulierung ausgestattet. Dies geschieht über eine Softbank-Maschine, die in den Computer der Kammer integriert ist. Dieses Tool ermöglicht es Benutzern, die Parameter ihres Experiments zu steuern und zu überwachen und sie nach Bedarf anzupassen. Schließlich ist die gesamte Anlage mit Blick auf die Sicherheit konzipiert. Es enthält mehrere Sicherheitsverriegelungen, die ausgelegt sind, um zu verhindern, dass sich gefährliche Bedingungen entwickeln, wie hoher Druck oder Temperatur. Darüber hinaus ist das Modell so konzipiert, dass es die strengen Sicherheitsstandards der Halbleiterindustrie erfüllt und gewährleistet, dass der Prozess sicher und effizient durchgeführt wird.
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