Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-38209 #293661400 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0242-38209 ist ein chemischer CVD-Reaktor, der zur Abscheidung dünner Filme auf Substraten verwendet wird. Dieser Reaktortyp arbeitet nach dem Prinzip der Erwärmung flüchtiger Quellgase - oft metallorganische oder siliziumorganische Verbindungen - auf eine hohe Temperatur, wo sie dann zu reaktiven Spezies zerfallen, die sich dann auf dem Substrat ablagern. AMAT 0242-38209 wird sowohl für die In-situ- als auch für die Ex-situ-Vorläuferlieferung verwendet. Es ist auch in der Lage, bis zu drei Vorläufer gleichzeitig zu liefern, wodurch die Reaktionsgeschwindigkeiten genauer gesteuert werden können. APPLIED MATERIALS 0242-38209 ist eine horizontale parallele Plattenausrüstung, die zwei vertikal ausgerichtete, gestapelte Quarzkammern enthält. Die obere Kammer enthält zwei Siliziumkarbidheizungen und ein Metallmaschenheizelement, mit dem die Kammer und das Substrat beheizt werden. Das Substrat wird auf einen beheizten, metallischen Suszeptor gelegt, der das Substrat in einem festen Arbeitsabstand von den Quarzwänden hält und eine gleichmäßige Erwärmung über das Substrat ermöglicht. Die untere Kammer ist in zwei Abschnitte aufgeteilt, wobei jeder Abschnitt über eine Nebenplatte unterteilt ist. Der obere Abschnitt enthält einen Spülinjektor, der die Vorläufergase in die untere Kammer einleitet. Der untere Abschnitt dient zur Steuerung des Abpumpprozesses, zur Übertragung der Gase aus dem Injektor und zur Beheizung der Steuerung der Reaktionsumgebung. Das Heizsystem des Reaktors 0242-38209 ist eine Kombination aus elektrischen und Strahlungsheizungen. Die Suszeptorplatte enthält zwei voneinander isolierte Elemente, die durch eine Induktionsheizeinheit verbunden sind. Diese Heizeinheit wird verwendet, um eine gleichmäßige und effiziente Erwärmung über das Substrat zu liefern, so dass die Folie homogen abscheidet. Eine Reihe von verstellbaren Düsen sind auch in der Maschine vorhanden, um Ablagerungen auf dem Substrat zu steuern. AMAT/APPLIED MATERIALS 0242-38209 Reaktor enthält auch eine Reihe von Fenstern in der oberen Quarzkammer, die zur Überwachung des Abscheidungsprozesses verwendet werden. Diese Fenster sind aus Saphir und Quarz gefertigt und haben eine geschichtete, karbidbeschichtete, dielektrische Beschichtung, die einen optischen Zugang zum Prozess ermöglicht und gleichzeitig einen Schutz vor Kontamination bietet. Ein fortschrittliches Raman-Spektrometer ist in das AMAT 0242-38209-Werkzeug integriert, um die Zusammensetzung der Filme genau zu messen. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS 0242-38209 ein bildgebendes Element, das zur Bewertung der Oberflächenmorphologie und Geometrie des Substrats verwendet werden kann. Dieses Abbildungsmodell ermöglicht eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses, was wiederum zu hochwertigen Filmablagerungen führt. Insgesamt ist der 0242-38209 CVD-Reaktor ein hochentwickeltes Dünnschichtabscheidungsgerät. Die Kombination aus Heizelementen, spezialisierten Injektoren und Fenstern ermöglicht eine präzise Kontrolle des Abscheideprozesses. Das Raman-Spektrometer und die bildgebenden Systeme ermöglichen auch die genaue Überwachung der Zusammensetzung und Morphologie der Filme. Dadurch wird dieser Reaktortyp häufig bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, integrierten Schaltkreisen und verschiedenen anderen Produkten eingesetzt.