Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0290-20094 #9203683 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 0290-20094 ist ein industrieller chemischer Aufdampfreaktor (CVD), der für die Abscheidung von dünnen Filmen unter Verwendung verschiedener Prozessgase ausgelegt ist. Der Reaktor misst 96 Zoll breit, 42 Zoll tief und 67 Zoll hoch und ist in der Lage, Chargen bis zu 7 Wafer pro Last mit 700 mm Durchmesser zu produzieren. Es verfügt über zwei unabhängige Inline-Heizungen mit unabhängiger Temperaturregelung für maximale thermische Gleichmäßigkeit, um sicherzustellen, dass das Substrat ausreichend Prozesse mit konsistenter Gleichmäßigkeit ist. Sein Innenraum besteht aus zwei Komponenten: dem Reaktorgefäß und dem Gaskrümmer. Das Reaktorgefäß ist so konzipiert, dass es eine nahezu ideale Gasströmungsumgebung bietet, und das Innere seines Zylinders ist mit Pyrolitischem Graphit (PG) ausgekleidet - einem hochreflektierenden, elektrisch leitfähigen Material, das die Quellgase konzentriert und eine gleichmäßige Filmbildung erzeugt. Der Gaskrümmer ist eine große Kammer an der Oberseite des Reaktors, wo die Quellgase unter Vakuum mit einem Einlass plus mehreren Transferleitungen in den Reaktor eingespritzt werden. Der Reaktor verwendet Hochtemperaturofen-Technologie, die den Einsatz aggressiverer Prozessbedingungen ermöglicht, die schnell dicke und gleichmäßige Filme mit guter Morphologie erzeugen. Die Hochfrequenz- und Gleichstromquellen bestehen aus hochwertigen Materialien und können Leistungsstärken bis zu 2000W erreichen, was ein homogenes niedrigeres Temperaturprofil und eine gleichmäßige Erwärmung über das Substrat liefert, was zu einer höheren Prozessstabilität und -ausbeute führt. Um einen hohen Durchsatz und minimale Stillstandszeiten zu gewährleisten, umfasst das System zwei Quarzschleuse-Kammern für die Be- und Entladung von Wafern und ein Abgasmanagement-System, das die flüchtigen Komponenten aus der Umgebung eliminiert. Darüber hinaus ist AMAT 0290-20094 mit einer Vielzahl von Gasstromreglern kompatibel, um den Prozess zu überwachen. Angewandte Materialien 0290-20094 CVD-Reaktor ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug für die Abscheidung einer breiten Palette von Materialien auf Wafern und anderen Substraten. Es bietet hochwertige einheitliche Folien und verfügt über einen modularen Aufbau, der einen anpassbaren Prozess und eine hervorragende Skalierbarkeit ermöglicht. Als solches ist es eine führende Wahl für die serienmäßige CVD-Abscheidung in der Halbleiterindustrie geworden.