Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 1350-01133 #293668149 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 1350-01133 Reaktor ist ein einzigartiges Werkzeug für die Herstellung von Halbleitermaterialien. Es ist für die Abscheidung, Oxidation, Glühen, Ätzen und andere Prozesse erforderlich, um fortschrittliche Schaltungsstrukturen auf Halbleiterscheiben zu schaffen. Das Gerät ist in der Lage, bei Temperaturen bis zu 1400 ° C und Drücken bis zu 0,2 Torr zu arbeiten. AMAT 1350-01133 Reaktor ist eine 2-Kammer zylindrische Konfiguration, die eine Reihe von Vorteilen gegenüber herkömmlichen Systemen bietet. Es verfügt über zwei unabhängige Anlagen mit separaten Kammer- und Prozesstemperaturen. Der Austrittsflansch der Reaktionskammer ist mit einer Gasdichtung versehen, die einen Rückfall reaktiver Gase in die Kammer verhindert und einen Gasaustritt verhindert. Dies ermöglicht zusammen mit den Hochtemperatur-Quarzwänden eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Durch die Niederdruck- und Temperaturkombination entfällt die Möglichkeit der Ungleichmäßigkeit durch das Vorhandensein von Gasen in der Kammer. Auch der Reaktor 1350-01133 bietet geringen Energieverbrauch und geringere Betriebskosten. Das System kann Wafer bis zu 6-Zoll-Durchmesser und Teflon-Effusionszellen bis zu 20 mm Tiefe aufnehmen. 1350-01133 Reaktor kann verwendet werden, um dielektrische und metallbasierte Schichten für Halbleiteranwendungen sowohl auf Schüttgut- als auch auf strukturierten Substraten herzustellen. Das Gerät eignet sich auch für 2D- und 3D-Prozesse. Es verfügt über eine fortschrittliche Bewegungssteuerungsmaschine mit mehreren Achsen und einer Positionsgenauigkeit von 0,001 mm. Das fortschrittliche Bewegungssteuerungswerkzeug sorgt für einen langsamen, stetigen Aufbau einer Schicht durch einen Abscheidungsprozess und bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit für integrierte Schaltungen. AMAT/APPLIED MATERIALS 1350-01133 Reaktor bietet eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie ein Übertemperatur- und Überdruck-Sicherheitsventil, und eine Top-Level-Steuerung. Dies gewährleistet die Sicherheit des Benutzers, steuert aber auch die Prozessumgebung und verhindert unerwartete Veränderungen im Betrieb. Das Modell verfügt auch über eine programmierbare Architektur für Datenerfassung und Gerätesteuerung. Insgesamt ist der AMAT 1350-01133 Reaktor ein fortschrittliches System zur Herstellung von Halbleitermaterialien, das ein hohes Maß an Sicherheit und Genauigkeit aufweist. Die Hochtemperatur-Quarzwände und die Niederdruckumgebung führen zu gleichmäßigen Schichten auf Halbleiterscheiben, und die fortschrittliche Bewegungssteuereinheit ermöglicht einen stetigen Aufbau von Schichten für komplexe Strukturen. Mit seinen Sicherheitsmerkmalen und der programmierbaren Architektur ist der APPLIED MATERIALS 1350-01133 Reaktor die perfekte Wahl für die Halbleiterproduktion.