Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 zu verkaufen

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ID: 9156161
PECVD Chamber Front Front Monitor: Ok Back Monitor: Ok Load port: Sensors, Cass plate Signal tower: R,Y,G,W Robot: ATM robot & Vacuum chuck Slit door: Open Laminar flow: Load port laminar flow Wafer transfer module Robot: No Baratron gauge: No Buffer door lift : Ok Buffer Isolation valve: Ok Buffer throttle valve: Ok Cool chamber: Ok Process module CH# A RF Match: HMN302D CH# B RF Match: Ok CH# C RF Match: Ok CH# D RF Match: No CH# A Gate valve: No CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD CH# C Gate valve: Ok CH# D Gate valve: Ok CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2 CH# B Throttle valve: No CH# C Throttle valve: Ok CH# D Throttle valve: Ok CH# A Heater lift: No CH# B Heater lift: No CH# C Heater lift: Ok CH# D Heater lift: No Controller Board: DI/O,AI/O : Ok DC power supply: Ok CH# A Baratron gauge: MKS CH# B Baratron gauge :Ok CH# C Baratron gauge : Ok CH# D Baratron gauge : Ok Regulator box Span sensor: Ok Manual v/v & Regulator: Ok Gas panel NF3: 2SLM Ar: 300SCCM NH3: 2500SCCM N2: 5SLM SiH4: 500SCCM 1%PH3/H2: 1SLM H2: 3SLM B2H6 System control rack Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU DC power supply: Ok Pump control module: Ok Servo DC power supply: Ok Main frame Power rack Generator Chamber A RFPP RF20S: 2666 Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005 Chamber C RFPP RF20S: No Chamber D RFPP RF20S: No Pump Chamber A QMB500 + QDP80 Chamber B QMB500 + QDP80 Chamber C QMB500 + QDP80 Chamber D QMB500 + QDP80 TM pump QDP40 Load/Lock chamber QDP40 Scrubber: Main scrubber CDO859 Back-up scrubber CDO858 Heatexchanger SPEED-7000 Missing and ETC parts : ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600 reactor ist ein großflächiges CVD-System (Chemical Vapor Deposition) für Halbleiteranwendungen. Es ist ein hochmoderner industrieller Reaktor zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien und -strukturen. Die fortschrittliche Abscheidetechnologie der Systeme bietet eine überlegene Einheitlichkeit mit einem Wafer, eine hervorragende Prozesskontrolle, einen zuverlässigen Betrieb und niedrige Betriebskosten. Der Reaktor ist mit einer hochleistungsfähigen, gasgekühlten Elektronenkanone ausgestattet, die durch einen thermionischen Waffenverstärker verbunden ist, der eine präzise Steuerung der Substrattemperatur, des Kammerdrucks, der Gasströme und der Abscheiderate ermöglicht. Ein Ätzkragen hilft, Partikelverunreinigungen zu reduzieren, während sein auf Metalltrommeln basierendes Design die Gleichmäßigkeit und dünne Filme auf Kupferbasis weiter verbessert. Der Reaktor kann eine Vielzahl von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 152 mm aufnehmen, einschließlich Siliziumscheiben, Galliumarsenid, Quarz, Glas und Aluminiumoxid. Es kann eine Vielzahl von Materialien verarbeiten, von Halbleitermetallen wie Aluminium, Kupfer und Nickel bis hin zu Dielektrika wie Siliziumnitrid und Aluminiumoxid. Das System ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, wie einer automatisierten Quelltuning, Vakuumniveauregelung, Plasmadiagnostik, automatisierte Gaslieferung und Testskripte, um den Prozess zu rationalisieren. Das farbige Touchscreen-Display und die intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) ermöglichen es Benutzern, alle Parameter des Laufs schnell und genau zu überwachen. Darüber hinaus wird der Reaktor AKT 1600 durch eine Vielzahl von Optionen unterstützt, darunter mehrere Lastschleusenkammern, parallele Prozesskammern und ein atmosphärisches Modul für die Vor- und Nachbearbeitung von Proben. Insgesamt ist das AMAT AKT1600 CVD-System in der Lage, hochwertige, kostengünstige dünne Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu produzieren. Die erweiterten Funktionen und die benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche machen es zu einer idealen Wahl für Prozesse, die überlegene Abscheidungsqualität und Zuverlässigkeit erfordern.
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