Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9156161
PECVD Chamber
Front
Front Monitor: Ok
Back Monitor: Ok
Load port: Sensors, Cass plate
Signal tower: R,Y,G,W
Robot: ATM robot & Vacuum chuck
Slit door: Open
Laminar flow: Load port laminar flow
Wafer transfer module
Robot: No
Baratron gauge: No
Buffer door lift : Ok
Buffer Isolation valve: Ok
Buffer throttle valve: Ok
Cool chamber: Ok
Process module
CH# A RF Match: HMN302D
CH# B RF Match: Ok
CH# C RF Match: Ok
CH# D RF Match: No
CH# A Gate valve: No
CH# B Gate valve : AV-4.0-MOD
CH# C Gate valve: Ok
CH# D Gate valve: Ok
CH# A Throttle valve: 153F-4-100-2
CH# B Throttle valve: No
CH# C Throttle valve: Ok
CH# D Throttle valve: Ok
CH# A Heater lift: No
CH# B Heater lift: No
CH# C Heater lift: Ok
CH# D Heater lift: No
Controller Board: DI/O,AI/O : Ok
DC power supply: Ok
CH# A Baratron gauge: MKS
CH# B Baratron gauge :Ok
CH# C Baratron gauge : Ok
CH# D Baratron gauge : Ok
Regulator box
Span sensor: Ok
Manual v/v & Regulator: Ok
Gas panel
NF3: 2SLM
Ar: 300SCCM
NH3: 2500SCCM
N2: 5SLM
SiH4: 500SCCM
1%PH3/H2: 1SLM
H2: 3SLM
B2H6
System control rack
Interface board: DI / O, Seriplex, VME, CPU
DC power supply: Ok
Pump control module: Ok
Servo DC power supply: Ok
Main frame
Power rack
Generator
Chamber A RFPP RF20S: 2666
Chamber B RFPP RF20S: NPG2K10S005
Chamber C RFPP RF20S: No
Chamber D RFPP RF20S: No
Pump
Chamber A QMB500 + QDP80
Chamber B QMB500 + QDP80
Chamber C QMB500 + QDP80
Chamber D QMB500 + QDP80
TM pump QDP40
Load/Lock chamber QDP40
Scrubber:
Main scrubber CDO859
Back-up scrubber CDO858
Heatexchanger SPEED-7000
Missing and ETC parts :
ETC: Part step ( scaffolding ).
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600 reactor ist ein großflächiges CVD-System (Chemical Vapor Deposition) für Halbleiteranwendungen. Es ist ein hochmoderner industrieller Reaktor zur Herstellung von Dünnschichtmaterialien und -strukturen. Die fortschrittliche Abscheidetechnologie der Systeme bietet eine überlegene Einheitlichkeit mit einem Wafer, eine hervorragende Prozesskontrolle, einen zuverlässigen Betrieb und niedrige Betriebskosten. Der Reaktor ist mit einer hochleistungsfähigen, gasgekühlten Elektronenkanone ausgestattet, die durch einen thermionischen Waffenverstärker verbunden ist, der eine präzise Steuerung der Substrattemperatur, des Kammerdrucks, der Gasströme und der Abscheiderate ermöglicht. Ein Ätzkragen hilft, Partikelverunreinigungen zu reduzieren, während sein auf Metalltrommeln basierendes Design die Gleichmäßigkeit und dünne Filme auf Kupferbasis weiter verbessert. Der Reaktor kann eine Vielzahl von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 152 mm aufnehmen, einschließlich Siliziumscheiben, Galliumarsenid, Quarz, Glas und Aluminiumoxid. Es kann eine Vielzahl von Materialien verarbeiten, von Halbleitermetallen wie Aluminium, Kupfer und Nickel bis hin zu Dielektrika wie Siliziumnitrid und Aluminiumoxid. Das System ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, wie einer automatisierten Quelltuning, Vakuumniveauregelung, Plasmadiagnostik, automatisierte Gaslieferung und Testskripte, um den Prozess zu rationalisieren. Das farbige Touchscreen-Display und die intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) ermöglichen es Benutzern, alle Parameter des Laufs schnell und genau zu überwachen. Darüber hinaus wird der Reaktor AKT 1600 durch eine Vielzahl von Optionen unterstützt, darunter mehrere Lastschleusenkammern, parallele Prozesskammern und ein atmosphärisches Modul für die Vor- und Nachbearbeitung von Proben. Insgesamt ist das AMAT AKT1600 CVD-System in der Lage, hochwertige, kostengünstige dünne Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu produzieren. Die erweiterten Funktionen und die benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche machen es zu einer idealen Wahl für Prozesse, die überlegene Abscheidungsqualität und Zuverlässigkeit erfordern.
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