Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9195141 zu verkaufen

ID: 9195141
PECVD System (4) Chambers Gas box Gas distribution cabinet (4) Acid cabinets Flammable cabinet (2) Stainless steel tables RASCO WTC-2000RS-AKT Water chiller AMAT RFPP RF20 Power source / Supplies rack Capable of transferring: 300x300 mm Square glass substrates With single loader module to load lock chamber 13-Slots load lock chamber cassette IMI Using chamber B With RF power Wafer handler Spare parts Manuals Power supply: 208 V, 60 Hz, 300 Amps, 3 Phase 1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600 ist eine plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) Reaktorausrüstung, die zur Abscheidung dünner Filme wie Dielektrika, leitfähige Materialien und Materialien für optische Anwendungen verwendet wird. Das System ist für den Betrieb mit bis zu 200 W HF-Leistung ausgelegt und ermöglicht die Abscheidung von dünnen Folien mit hervorragenden Eigenschaften. Mit dem PECVD-Verfahren werden dünne Filme aus polykristallinem Silizium, amorphem Silizium, Siliziumnitrid und Siliziumoxynitriden abgeschieden. Das Gerät nutzt ein HF-gesteuertes Quellgasmodul und kombiniert sowohl Plasma- als auch thermische Prozesse, um gleichmäßige, hochkonforme Dünnschichten auf großen Substratflächen abzuscheiden. Die Substratgröße kann bis zu 300 mm Durchmesser erreichen. Weiterhin sind die reaktiven Gasflüsse einstellbar, um eine präzise Steuerung des Wachstums der dünnen Filme zu ermöglichen. AKT 1600 enthält eine HF-Antenne, die zur Erzeugung des im Abscheidungsprozess verwendeten Plasmas verwendet wird. Die Maschine wird von zwei Hochleistungs-HF-Generatoren mit einer Leistung von 200 W angetrieben. Die externe HF-Quelle ist über eine HF-Spule mit dem Innenraum verbunden, die als Kommunikationsverbindung zwischen dem HF-Generator und der Plasmakammer dient. Die Plasmakammer des Werkzeugs ist für die Aufnahme mehrerer Substrate zur Mehrzonenabscheidung ausgelegt. Die Kammer wird von einem Quarzglockenglas umschlossen, das zur Bereitstellung einer inerten Umgebung für den Plasmaabscheidungsprozess dient. Das Glockenglas verfügt über einen einstellbaren Gaseinlass, der zur Steuerung des Ätz-/Abscheidungsprozesses durch Steuerung der Strömungsgeschwindigkeit der Quellgase verwendet wird. Zur Temperaturregelung ist das Modell mit einem Hochtemperatur-Doppelzonen-Heizelement ausgestattet. Die Tieftemperaturzone dient zur Initiierung und Stabilisierung des Abscheidungsprozesses, während die Hochtemperaturzone zur Prozessoptimierung genutzt wird. AMAT AKT1600 verfügt auch über eine verstellbare Abgasanlage, die zur Steuerung des Drucks in der Kammer und zur Unterstützung bei der Entfernung von Nebenprodukten aus dem Prozess verwendet wird. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS AKT1600 ein robustes PECVD-System, das Anwendern eine zuverlässige, vielseitige und effiziente Möglichkeit bietet, dünne Filme in Qualität abzuscheiden. Mit seiner einstellbaren Gaseinlaß- und Abgaseinheit, Hochleistungs-HF-Generatoren und Zweizonen-Heizelement können Anwender den Abscheideprozess leicht steuern, um dünne Filme mit hervorragenden Eigenschaften für eine Vielzahl von Anwendungen zu erhalten.
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