Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS (3) Chambers for P5000 #293636202 zu verkaufen

AMAT (3) Kammern für den P5000 Reaktor ist ein Hochleistungs-, Drei-Kammer, fortschrittliches Prozesswerkzeug für die Herstellung auf Chip-Ebene gewidmet. Diese Ausrüstung bietet erhöhten Durchsatz und schnelle Zykluszeiten mit höchster Qualität, um die anspruchsvollsten Kundenanforderungen zu erfüllen. Dieser P5000 Reactor bietet einzigartige Funktionen und Funktionen, die ihn von konkurrenzfähigen Systemen unterscheiden. Das beeindruckendste davon ist das fortschrittliche mehrstufige System für schnelle und wiederholbare Prozesse. Die drei Kammern können zum Ätzen und Abscheiden konfiguriert werden, wobei zusätzliche Prozesse wie Sputterabscheidung, zusätzliche externe Verarbeitungsfähigkeit und fortschrittliche Kühlsysteme zur Verfügung stehen. Durch die Kombination von Hardware- und Software-Innovationen bietet das Gerät maximales Durchsatz- und Durchsatzmanagement, was zu Prozessoptimierungen führt. Der Workflow des P5000 ist auf wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisse mit durchweg vorhersehbaren Zykluszeiten ausgelegt. Der Prozess integriert die Kammermodule und -abläufe Vakuumzyklen, Temperaturregelung, Fernbedienung und Erfassung mit der Prozessprogrammierung. Es bietet auch eine automatische selektive Wiederholung, die es dem Benutzer ermöglicht, mehrere identische Rezepte mit unterschiedlichen Parametern auszuführen. Das P5000 verfügt über erstklassige Kammertemperaturen, Druckkontrolle und Gleichmäßigkeit. Die Kammertemperaturregelung wird durch eine fortschrittliche PID-18-Zonen-Temperaturregelmaschine realisiert, während die Druckregelung stabile und wiederholbare Druckprofile über einen weiten Bereich von Druckniveaus bietet. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine einzigartige thermische Abbildung für die Ätz- und Abscheidekammern, die eine bessere Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit kritischer Parameter auf Waferebene über den gesamten Wafer ermöglicht. Dieses thermische Mapping bietet auch schnellere Zykluszeiten und erhöhte Prozessmarge. Das P5000 umfasst auch zusätzliche Funktionen wie eine präzise Wafer-Handhabung und Platzierung Asset, automatisches Laden/Entladen mit zufälligem Zugriff, Echtzeit-Ziel-Layer-Überwachung und erweiterte Prozessüberwachung. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine fortschrittliche Diagnose und Fehlerüberprüfung für verbesserte Prozesserträge und Zuverlässigkeit sowie erweiterte Datenerfassungs- und Abruffunktionen zur weiteren Prozessoptimierung. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS (3) Kammern für den P5000 Reaktor ein leistungsstarkes Dreikammerwerkzeug, das einen erhöhten Durchsatz und schnelle Zykluszeiten mit höchster Qualität bietet und gleichzeitig beste Kammertemperaturen und konsistente Prozessmargen bietet. Mit seiner einzigartigen thermischen Kartierung hilft die Ausrüstung, Prozesserträge und Zuverlässigkeit zu maximieren. Dieser Reaktor hat auch die Flexibilität, mehrere Konfigurationen zu unterstützen, was dem Benutzer eine ultimative Kontrolle und Wiederholbarkeit für seinen Prozess bietet.