Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS (3) CVD Chambers for P5000 #293660269 zu verkaufen

AMAT (3) CVD Kammern für P5000 ermöglicht die chemische Dampfabscheidung (CVD), so dass Benutzer dünne Oberflächenfolien für verschiedene Anwendungen erstellen können. Dieser CVD-Reaktor weist drei Kammern mit individualisierten Abscheidezonen auf und eignet sich zur Abscheidung von Metallen, Oxiden, Nitriden und anderen Materialien. Das P5000 kombiniert erfolgreich mehrere Technologien für die Ätz- und CVD-Prozesse in einem einzigen System, das den Durchsatz und die Produktivität verbessern soll. ANGEWANDTE MATERIALIEN (3) CVD-Kammern für P5000 haben drei Abscheidekammern: eine Niedertemperaturabscheidungskammer, eine Hochtemperaturabscheidekammer und eine plasmaverbesserte Abscheidekammer. Die Niedertemperaturkammer ist mit einem beheizten Wafertransportsystem ausgestattet, das einen Temperaturbereich von 20-200 ° C für die Abscheidung von aus flüssigen und festen Quellen abgeschiedenen Materialien ermöglicht. Die Hochtemperaturkammer ermöglicht die Abscheidung bei Temperaturen bis 1000 ° C und ermöglicht die Abscheidung unterschiedlichster Materialien wie Metalle, Nitride, Oxide, Legierungen und Polymere. Die dritte Kammer ist eine plasmaverbesserte Abscheidekammer, die plasmainduzierte Gasphasenabscheidungsprozesse für Materialien nutzt, die nicht erfolgreich aus einer flüssigen oder festen Quelle abgeschieden werden können. Die drei Kammern sind jeweils mit eigenen individualisierten HF-Stromquellen ausgestattet, die eine leichtere Prozessoptimierung ermöglichen. Die fortschrittliche Software und Datenbank von Wafer-Overlay- und Alignment-Rezepten sorgen für höchste Prozesskontrolle. Alle benutzerfreundlichen Mess- und Analysefunktionen minimieren die Prozesszeit und ermöglichen es dem Anwender, Substrattemperaturen und Abscheideraten genau zu steuern. AMAT/APPLIED MATERIALS (3) CVD Kammern für P5000 unterstützen eine Vielzahl von Materialien und Prozesstypen, so dass eine Reihe von Produktmöglichkeiten. Dieser CVD-Reaktor bietet Anwendern auch mehrzonige kontinuierliche Prozesse, die dazu beitragen, komplexere Filmstrukturen und andere Strukturen wie Nanoeigenschaften zu schaffen. Die Kammer enthält auch Standardsicherheitsmerkmale, die sicherstellen, dass die Bediener während des Betriebs ausreichend geschützt sind. AMAT (3) CVD Chambers for P5000 bietet ein fortschrittliches CVD-Technologie-Paket, in dem Benutzer eine Vielzahl von Materialien auf verschiedenen Substraten ablegen können. Dieser fortschrittliche CVD-Reaktor bietet Anwendern hohe Produktivität, Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit und bleibt gleichzeitig kostengünstig. Alle diese Funktionen kombinieren, um das P5000 zu einer ausgezeichneten Wahl für jedes Unternehmen zu machen, das einen zuverlässigen und effizienten CVD-Reaktor benötigt.