Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380504 zu verkaufen

ID: 9380504
PECVD System.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist ein Reaktor, der entworfen wurde, um eine Vielzahl von Prozessen in der Halbleiterindustrie durchzuführen. Es ist mit hohen Temperatur- und Druckfähigkeiten ausgestattet, die es ermöglichen, eine Vielzahl von Ätz- und Abscheidungsaufgaben auszuführen. Der Reaktor ist zuverlässig, vielseitig und sicher zu bedienen, da er mit einer Sicherheitsabschaltfunktion ausgestattet ist. Im Kern verfügt die AKT 3500 über eine wärmeisolierte, gasdichte Pyrolyt-Graphit-Kammer, die für eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit und widerstandsfähige/regenerative Eigenschaften während des Gebrauchs ausgelegt ist. Zusätzlich ist die Kammer mit Verbundfolie ausgekleidet, die zu überlegener Temperaturhomogenität beiträgt. Der Reaktor wird mit einer modernen Widerstandsheizung beheizt, die über ein eingebettetes Temperatursensorsystem verfügt, das die Wärmeübertragungsgeschwindigkeit reguliert und arbeitet, um genaue und konsistente Temperaturen zu erhalten. AMAT AKT-3500 verfügt auch über eine integrierte automatisierte Prozesssteuerung, die hilft, zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Diese Maschine wurde entwickelt, um die Temperatur- und Druckeinstellungen des Reaktors zu überwachen und entsprechend anzupassen, um die Prozessgenauigkeit zu erhalten. Zusätzlich kann das Werkzeug für eine Vielzahl von Prozessen und Materialien programmiert werden. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 umfasst auch eine automatisierte Prozessüberwachung, die Prozessparameter erfasst und bei der Dokumentation von Ergebnissen unterstützt. Dieses Modell bietet auch Zugriff auf Prozessüberwachungs- und Analysefunktionen. Darüber hinaus ist der Reaktor so konzipiert, dass er eine Vielzahl von Optionen, wie kundenspezifische Konfigurationen, umfasst, um mehrere Prozessanforderungen zu erfüllen. Beispiele dieser Konfigurationen includeelectron Zyklotronklangfüllemikrowellenplasma (ECR), elektrostatisch, das Spritzen und die Ionsimplantation. Auf diese Weise können AKT-3500 auf die spezifischen Bedürfnisse verschiedener Halbleiterproduktionsanwendungen zugeschnitten werden. Schließlich kann die APPLIED MATERIALS 3500 mit einem Hochgeschwindigkeits-HF-Netzteil sowie einem HF-Messgerät ausgestattet werden, um bei den verschiedenen Ätz- und Abscheideprozessen möglichst hohe Ausbeuten zu erzielen. Zusammenfassend ist AMAT/AKT AKT-3500 ein fortschrittlicher, zuverlässiger und vielseitiger Reaktor, der für die Durchführung mehrerer Prozesse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verfügt über eine temperaturbeständige Kammer mit überlegener Temperaturhomogenität sowie eine automatisierte Prozesssteuerung und Prozessüberwachungseinheit. Darüber hinaus kann es für eine Vielzahl von Operationen angepasst werden und ist mit einem Hochgeschwindigkeits-HF-Netzteil für höchstmögliche Erträge ausgestattet.
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