Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380513 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist eine hochleistungsfähige Inline-Plasmaätz-/Reinigungsprozessanlage für Ätz- und Reinigungsprozesse in der Mikroelektronikindustrie. Das System nutzt ein fortschrittliches Plasmasteuerungsmodul, um eine präzise Steuerung des reaktiven Ionenätzprozesses (RIE) zu ermöglichen, was zu einer überlegenen Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit des Ätzprozesses führt. Die Einheit besteht aus mehreren Teilkomponenten, darunter einem Plasmagenerator, einem automatisierten Lastschloß, einem einstellbaren Druck-/Strömungsregler, einem Plattenheizgerät zur Erwärmung von Wafern, eingebetteten Hoch- und Gleichspannungsquellen und einer Vakuumkammer mit Differenzpumpung. Der Plasmagenerator in der Maschine verwendet einen Satz von Pumpelementen, um eine stabile dielektrische Vakuumkammer bei Drücken bis zu 0,2torr zu schaffen, und ist in der Lage, sowohl Plasma-Ein als auch Plasma-Aus-Zustände während des Ätzvorgangs zu erzeugen. Der Plasmagenerator ist auch in der Lage, eine breite Palette von Filmzusammensetzung, Kammerdruck und Temperatur zu liefern. Das Werkzeug beinhaltet einen automatisierten Lastverschluss zum effizienten Be- und Entladen von Wafern, der den Kammerdruck und die Temperatur für konsistente Ätzprozesse automatisch steuert. Der Druck-/Strömungsregler ermöglicht eine präzise Steuerung der Bereiche der Plasmakammer und die Zuführung von Rohgas und ultrareinem Ätzgas zur Kammer. Dies trägt dazu bei, eine gleichmäßige Verteilung der durch Plasma erzeugten aktiven Spezies während des gesamten Ätzprozesses zu gewährleisten, was zu überlegenen Ätzergebnissen führt. Die Anlage umfasst auch eine Plattenheizung, um Wafer zu erwärmen, um einheitliche Ätzergebnisse zu gewährleisten, und eine eingebettete HF-Quelle für eine konsistente Ätzratenkontrolle. AKT 3500 wurde entwickelt, um konsistente, zuverlässige und wiederholbare Ätzprozesse für die Mikroelektronik-Industrie bereitzustellen. Die integrierte Komponentensuite ermöglicht eine präzise Steuerung des reaktiven Ionenätzprozesses, was eine überlegene Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ergibt. Mit der Fähigkeit des Modells, eine breite Palette von Folienzusammensetzung, Kammerdruck, Temperatur und Gaszufuhr zu liefern, bietet AMAT AKT-3500 eine effektive Lösung für Ätz- und Reinigungsprozesse in der Mikroelektronikindustrie.