Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380514 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist ein von AKT Inc. entwickelter chemischer Reaktor. Es ist eine fortschrittliche Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Produktionsausrüstung mit niedrigen Temperaturen Plasmen. Diese Art der Abscheidung wird verwendet, um dünne Filme aus verschiedenen Materialien, meist Silizium und Stickstoff, auf einem Substrat abzuscheiden. AKT 3500 ist ein vielseitiges, vielseitiges und skalierbares System, das zur Herstellung einer Vielzahl von Produkten wie Halbleiterkomponenten, Displays und Optik verwendet werden kann. Dieser Reaktor verfügt über eine horizontal montierte rechteckige Kammer zur Verarbeitung von bis zu 8 „X 8“ Substraten. Die Kammer verfügt über zwei Quellen von Dual Magnetron Sputter (DMS) und Multi-Source Magnetron Sputterquellen, die zur Erzeugung der gewünschten Plasmaumgebung verwendet werden können. Darüber hinaus ist das Gerät in der Lage, Substrattemperaturen von 10 ° C bis 200 ° C zu erreichen, was eine genaue Kontrolle des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Der Reaktor ist mit einer Vielzahl fortschrittlicher Technologien ausgestattet, um Kosten zu senken und die Effizienz zu steigern. Insbesondere die in AMAT AKT-3500 eingesetzte fensterlose Vakuumkammertechnologie trägt dazu bei, den thermischen Energieverlust zu reduzieren, den Gesamtenergieverbrauch zu senken und die Partikelverschmutzung zu reduzieren. Eine zusätzliche fortschrittliche Technologie, flexible Gasverteilung, ermöglicht eine präzise Steuerung des Vorläufergasdurchsatzes, der bei der Optimierung von Dünnschichtprozessen hilft. Die Maschine verwendet eine patentierte kathodische Lichtbogenquellentechnologie, die zu hochwertigen, gleichmäßigen Beschichtungen mit hohen Abscheideraten führt. Dies liegt an dem Lichtbogen, der zwischen Anode und Kathode erzeugt wird, was zu hochenergetischem Plasma führt, das dünne Filme ohne Verunreinigungen abscheiden kann. Diese Technologie bietet auch eine sehr hohe Gleichmäßigkeit bei der Dünnschichtabscheidung über das gesamte Substrat. APPLIED MATERIALS AKT-3500 ist ein branchenführendes, anpassbares Werkzeug für die hochpräzise Dünnschichtabscheidung. Es bietet eine breite Palette von Funktionen, Technologien und Steuerungsverfahren, die es zu einer idealen Wahl für viele Produktionsanwendungen machen. Diese hochmoderne Anlage beseitigt auch viele der Einschränkungen herkömmlicher PECVD-Systeme und bietet Anwendern eine viel effizientere und kostengünstigere Lösung.