Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380515 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist ein fortschrittlicher Niedertemperatur-PECVD-Reaktor (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), der für die Herstellung von Halbleiterstrukturen entwickelt wurde. Dieser Reaktor bietet erhebliche Vorteile gegenüber herkömmlichen Abscheidungssystemen, wie höherer Durchsatz und verbesserte Gleichmäßigkeit der Abscheidung. AKT 3500 verfügt über ein einzigartiges zweistufiges HF-Generatorsystem, das zwei unabhängige, kaskadierte HF-Quellen zur Erzeugung einer hochfrequenten (HF) und abstimmbaren HF-Stromquelle mit unabhängiger Generatorsteuerung verwendet. Auf diese Weise kann der Anwender den Abscheidevorgang mit genauer Steuerung der Gasphasentemperatur und der Abscheidegeschwindigkeit des Zielmaterials konfigurieren und feinjustieren. AMAT AKT-3500 enthält eine einwandige Reaktionskammer mit einer Vielzahl von axialen und radialen Gasinjektoren, um den Abscheidungsprozess zu erleichtern. Der Radius der Einspritzzone ist einstellbar, so dass der Benutzer die Abscheidungsgleichmäßigkeit und den Durchsatz optimieren kann. Ferner enthält die Reaktionskammer Peaking-Field-Bereiche, um eine gleichmäßige Verteilung der Reaktionspartner und eine effiziente gleichmäßige Abscheidung des Zielmaterials zu gewährleisten. Neben dem HF-Generator und der Reaktionskammer verfügt AKT-3500 auch über eine komplexe Kombination aus Stromversorgung, Steuerung und Diagnosesystemen. Diese Systeme ermöglichen es dem Benutzer, die Reaktorumgebung zu überwachen und anzupassen, um eine optimale Leistung zu erzielen und gleichzeitig den Materialdurchsatz und die Gleichmäßigkeit zu maximieren. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 bietet auch erweiterte Sicherheitsfunktionen wie ein TMF-System (Torque Monitoring Feedback) und einen Niedertemperatur-Plasmawächter. Dieser Schutz hilft, die Kammertemperatur auf optimalem Niveau zu halten und gleichzeitig gefährliche und überhitzte Zonen innerhalb der Kammer zu verhindern. Insgesamt ist AMAT 3500 ein hocheffizienter und intuitiver PECVD-Reaktor, der die Anforderungen vieler kommerzieller Halbleiterproduktionsprozesse erfüllen kann. Sein fortschrittlicher zweistufiger HF-Generator, die präzise konfigurierbare Einspritzzone und integrierte Sicherheitssysteme sorgen für eine präzise Materialabscheidung bei gleichzeitiger Optimierung des Durchsatzes. APPLIED MATERIALS AKT-3500 ist eine ideale Wahl für alle, die eine zuverlässige und vielseitige PECVD-Lösung suchen.